[發(fā)明專(zhuān)利]蒸鍍用掩模板

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210011764.1
• 申請(qǐng)日: 2012-01-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103205704A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏志凌;高小平
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;C23C14/24
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種蒸鍍用掩模板，形狀為四邊形金屬板，包括與銦錫氧化物（ITO）基板接觸的ITO面和蒸鍍面兩個(gè)面，所述掩模板上具有貫通ITO面和蒸鍍面的通孔，通孔在ITO面上的開(kāi)口尺寸小于在蒸鍍面上的開(kāi)口尺寸，ITO面和蒸鍍面的通孔開(kāi)口均具有倒錐角。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于所述ITO面和蒸鍍面上的通孔開(kāi)口通過(guò)若干個(gè)實(shí)橋，將開(kāi)口連接起來(lái)，通孔在掩模板上呈規(guī)則網(wǎng)格狀分布；所述掩模板為矩形，厚度為5～200μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面的通孔開(kāi)口倒錐角的角度小于蒸鍍面的通孔開(kāi)口倒錐角的角度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于掩模板材料為不銹鋼、純鎳、鎳鈷合金、鎳鐵合金、因瓦合金中的任意一種金屬板。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于掩模板厚度為10～50μm；將其在掩模板的厚度方向上垂直剖開(kāi)，其剖面圖為葫蘆狀。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面和蒸鍍面上的開(kāi)口長(zhǎng)尺寸邊的方向?yàn)榭v向，開(kāi)口小尺寸邊的方向?yàn)闄M向；ITO面開(kāi)口橫向尺寸小于蒸鍍面網(wǎng)格開(kāi)口的橫向尺寸。

7.根據(jù)權(quán)利要求６所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面通孔開(kāi)口橫向上的尺寸精度在±5μm；ITO面的倒錐角開(kāi)口的垂直深度在5～25μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于蒸鍍面大尺寸網(wǎng)格狀開(kāi)口側(cè)壁為光滑錐壁，錐度在30～50°。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于ITO面的倒錐角開(kāi)口的垂直深度小于等于蒸鍍面錐角開(kāi)口的垂直深度。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用掩模板，其特征在于所述掩模板使用時(shí)，ITO面與蒸鍍基板ITO玻璃緊密貼緊，有機(jī)材料通過(guò)通孔開(kāi)口蒸鍍到ITO玻璃基板上。