[發(fā)明專利]一種脫膜工藝

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210010773.9
• 申請(qǐng)日: 2012-01-16
• 公開（公告）號(hào): CN103205785A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏志凌;高小平;潘世彌;吳建
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號(hào): C25D1/10
• 分類號(hào): C25D1/10;B08B7/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種電鑄金屬掩模板的脫模工藝，屬于材料加工領(lǐng)域，具體涉及一種電鑄金屬掩模板的后處理工藝中的脫膜工藝。

背景技術(shù)

在現(xiàn)今的高精度制造領(lǐng)域，如精密電鑄，電鑄網(wǎng)板的市場(chǎng)越來越大，因此對(duì)電鑄金屬掩模板的整套工藝也要求越來越成熟。

電鑄是利用離子沉降將所要電鑄的材料電鑄在芯模（基板）上，芯模（基板）上留有曝光后的干膜開口圖形區(qū)域，沉積材料的離子沿著開口圖形區(qū)域的干膜邊緣生長(zhǎng)，隨著電鑄時(shí)間的加長(zhǎng)，沉積厚度增加，就會(huì)形成與干膜開口圖形相同的電鑄層開口。在電鑄工序完成后，需對(duì)克隆電鑄層開口圖形的干膜進(jìn)行褪膜處理，而由于電鑄層的開口尺寸很小，以微米級(jí)計(jì)算，所以附著在電鑄層開口中的曝光干膜很難褪去，往往僅僅通過單一的褪膜方法很難將其褪除干凈，都會(huì)有干膜殘留在開口壁。這種殘留的干膜若不及時(shí)處理掉，就會(huì)在電鑄金屬掩模板的后續(xù)應(yīng)用上造成影響，比如：用于SMT的印刷用掩模板，通過掩模板上的開口，印刷材料漏到PCB基板上，形成掩模板上開口圖形的轉(zhuǎn)移，如果開口中留有殘膜，勢(shì)必會(huì)對(duì)印刷材料的滲漏造成影響，產(chǎn)生下錫不良，造成印刷缺陷。

處理感光干膜主要原理是堿還原聚合物，即破壞膜聚合物的分子鍵，使其還原為小分子，并溶于脫膜液中，但單一的堿處理曝光后的干膜，很難將干膜脫除干凈。為此，必須在此基礎(chǔ)上進(jìn)行脫模工藝改進(jìn)，以確保在不損害掩模板的前提下，將干膜除凈。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提出一種脫模工藝。應(yīng)用此種脫模工藝可以解決單一的堿去除干膜時(shí)出現(xiàn)的干膜殘留問題。使用本發(fā)明中的脫模工藝，具有如下的優(yōu)勢(shì)：

（1）能夠?qū)㈦婅T開口里面的干膜全部脫凈，且對(duì)掩模板沒有損傷；

（2）使用超聲振蕩，對(duì)于形狀復(fù)雜的、開口多的、開口尺寸小的部位的干膜分解、脫落更有獨(dú)特功效；

（3）成本低廉，便于大規(guī)模的使用推廣。

本發(fā)明涉及一種脫膜工藝，具體的說，本發(fā)明的脫模工藝針對(duì)印刷后掩模板的后處理工藝步驟的脫模工藝。

一種脫膜工藝，其特征在于，脫模工藝中包括兩種脫膜方式：超聲脫模和噴淋水洗。

脫模工藝采用的是循環(huán)工藝，將超聲脫模和噴淋水洗作為一個(gè)循環(huán)的單元，進(jìn)行反復(fù)的操作，以達(dá)到清除干膜的效果。

在脫模工藝處理中，循環(huán)單元次數(shù)不少于1次，優(yōu)選地，循環(huán)次數(shù)為3次。

在脫模工藝的超聲步驟中，超聲的參數(shù)包括超聲頻率和超聲時(shí)間，具體的說，超聲頻率在4～6KHz?，超聲時(shí)間在1～5min?。

在脫模工藝的噴淋水洗步驟中，包括浸泡和噴淋兩步。

具體的說，浸泡時(shí)間為3～10min，噴淋時(shí)間為10～60s。

在各個(gè)循環(huán)單元的每一步，包括超聲脫模和噴淋水洗，均使用相同的脫模液。

具體的說，脫膜液的主要成分為可溶性堿，脫模液的濃度為1-3mol/L，脫模時(shí)的溫度為40-50℃。

使用本發(fā)明中的超聲分散的優(yōu)點(diǎn)在于：超聲波在液體中傳播時(shí)的聲壓劇變使液體發(fā)生強(qiáng)烈的空化和乳化現(xiàn)象，每秒鐘產(chǎn)生數(shù)百萬計(jì)的微小氣泡，這些氣泡在聲壓作用下急速地大量產(chǎn)生，并不斷地猛烈爆破，產(chǎn)生強(qiáng)大的沖擊力和負(fù)壓吸力，足以使殘留在開口內(nèi)的干膜脫除干凈。

當(dāng)超聲波在液體中傳播時(shí)，由于液體微粒的劇烈振動(dòng)，會(huì)在液體內(nèi)部產(chǎn)生小空洞。這些小空洞迅速脹大和閉合，會(huì)使液體微粒之間發(fā)生猛烈的撞擊作用，從而產(chǎn)生幾千到幾萬個(gè)大氣壓的壓強(qiáng)，微粒間這種劇烈的相互作用，會(huì)使液體的溫度驟然升高，起到了很好的攪拌作用，從而使兩種不相溶的液體發(fā)生乳化，且加速溶質(zhì)的溶解，加速化學(xué)反應(yīng)。

應(yīng)用超聲震蕩外加噴淋處理加強(qiáng)干膜分子鍵的斷裂，以達(dá)到將電鑄開口內(nèi)的干膜處理干凈的效果，且對(duì)掩模板沒有損傷。

正是由于超聲的該種功能，使得脫膜效果改善，再加上噴淋水洗的機(jī)械作用，可促使加速化學(xué)反應(yīng)，并且使得干膜更易脫離，達(dá)到脫膜干凈的目的。

本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實(shí)踐了解到。

具體實(shí)施方式

以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。

本發(fā)明揭示一種電鑄掩模板的后處理工藝中的脫模工藝。

實(shí)施例1

???本實(shí)施例中針對(duì)厚度0.15mm，圖形開口寬度為0.2mm的掩模板，進(jìn)行的后處理的脫模工藝參數(shù)如下：