[發(fā)明專利]一種蒸鍍用金屬掩模板及其制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210010763.5
• 申請日: 2012-01-16
• 公開（公告）號: CN103205714A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 魏志凌;高小平
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/04;C25D1/10;C25D3/56
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1.一種蒸鍍用金屬掩模板，其特征在于，所述蒸鍍用金屬掩模板的材質(zhì)包括鐵和鎳，其中鐵含量為63%～65%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所屬的蒸鍍用金屬掩模板，其特征在于，所述蒸鍍用金屬掩模板的表面光亮度為一級光亮，所述板面均勻性≤5%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所屬的蒸鍍用金屬掩模板，其特征在于，所述蒸鍍用金屬掩模板上具有符合蒸鍍要求的開口圖形區(qū)域；所述蒸鍍用金屬掩模板的厚度范圍為20～70μm。

4.一種權(quán)利要求1所述蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述方法包括：選擇不銹鋼芯模、水洗、貼膜、曝光、顯影、活化、電鑄、脫模操作；所述水洗操作具體包括除油、酸洗、噴砂及超聲浸洗。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述電鑄具體為，以硫酸鹽體系作為電鑄液，金屬陽極為鎳塊，將其置于所述電鑄液中，所述不銹鋼芯模作為陰極板，在陰極板電沉積形成蒸鍍用金屬掩模板；

所述電鑄液的成分范圍為：

硫酸鎳??????????????????220～260g/L

氯化鎳??????????????????30～50g/L

硼酸????????????????????40～50g/L

硫酸亞鐵????????????????35～45g/L。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述電鑄液內(nèi)還添加的成分有：

穩(wěn)定劑??????????????????0.5～1ml/L

潤濕劑??????????????????0.5～1ml/L

走位劑??????????????????1～5ml/L。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述電鑄液：

pH??????????????????????3.0～3.4

溫度?????????????????????35～40℃

電流密度?????????????????1～3A/dm²

鍍速?????????????????????9～12μm/h。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述電鑄液內(nèi)陰極與陽極之間還設(shè)置有與所述陰極板平行的陽極擋板，所述陽極擋板上設(shè)有可供電鑄溶液通過的多個開孔，所述陽極擋板用于控制蒸鍍用金屬掩模板鍍層的均勻性。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述活化操作具體為：活化時間2～5min，活化液濃度1～2mol/L，活化溫度30℃。

10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蒸鍍用金屬掩模板的制備方法，其特征在于，所述脫模方式為超聲波脫模，具體的，超聲時間1～3min，脫模溫度65℃，脫模液濃度1～2mol/L。