[發明專利]防止下垂的掩模框架及防止下垂的掩模組件無效
| 申請號： | 201210010752.7 | 申請日： | 2012-01-16 |
| 公開（公告）號： | CN103207518A | 公開（公告）日： | 2013-07-17 |
| 發明（設計）人： | 魏志凌;高小平;鄭慶靚;吳小燕 | 申請（專利權）人： | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/64 | 分類號： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215300 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 防止 下垂 框架 模組 | ||
1.一種防止下垂的掩?？蚣?，其特征在于，包括邊框和支撐條，所述邊框和支撐條一體成型。
2.根據權利要求1所述的掩?？蚣埽涮卣髟谟?，所述支撐條之間縱向或橫向相互平行。
3.根據權利要求2所述的掩?？蚣埽涮卣髟谟?，所述支撐條之間有間隙。
4.根據權利要求3所述的掩?？蚣?，其特征在于，所述支撐條之間的間隙大于或等于掩模板圖形區域的開口；所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區域開口之間的間隙。
5.根據權利要求2所述的掩?？蚣埽涮卣髟谟?，還設有橫向或縱向相互平行的支撐條與所述縱向或橫向相互平行的支撐條垂直交叉，形成許多網格。
6.根據權利要求5所述的掩模框架，其特征在于，所述網格的尺寸大于或等于掩模板圖形區域開口的尺寸，所述支撐條的寬度小于或等于掩模板圖形區域開口之間的間隙。
7.根據權利要求1-6任一項所述的掩?？蚣?，其特征在于，所述支撐條與所述邊框處于同一水平面上。
8.根據權利要求1-6任一項所述的掩模框架，其特征在于，所述邊框上具有滿足蒸鍍設備要求的結構設計。
9.一種防止下垂的掩模組件，其特征在于，包括權利要求1-8任一項所述的防止下垂的掩?？蚣芎脱谀０?，所述防止下垂的掩?？蚣芘c所述掩模板焊接。
10.根據權利要求9所述的防止下垂的掩模組件，其特征在于，所述掩?？蚣艿目v橫向支撐條與所述掩模板縱橫向圖形區域間隙對齊，支撐條中心線上與掩模板圖形區域間隙之間有焊接點，掩模框架邊框邊緣區域與掩模板邊緣之間也有焊接點，所述掩?？蚣苓吙蜻吘墔^域是指掩模框架邊框中心線到掩模框架邊框外邊線之間的區域。
11.根據權利要求9或10所述的防止下垂的掩模組件，其特征在于，所述支撐條與所述掩模板的制作材料相同。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山允升吉光電科技有限公司，未經昆山允升吉光電科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210010752.7/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種澆灌器
- 下一篇：重度乳糜血快速檢測方法
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
