[發明專利]高鐵含量的三維立體蒸鍍掩模板

有效

• 申請號: 201210010712.2
• 申請日: 2012-01-16
• 公開（公告）號: CN103205690A
• 公開（公告）日: 2013-07-17
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
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技術領域

本發明涉及一種三維立體蒸鍍掩模板,?屬于OLED制作領域。

背景技術

OLED，即有機發光二極管，又稱有機電激光顯示。OLED顯示技術與傳統的LED顯示方式不同，無需背光燈，采用非常薄的有機材料涂層和玻璃基層，當有電流通過時，這些有機材料就會發光。而且OLED顯示屏幕可以做得更輕更薄，可視角度更大，并且能夠顯著節省電能。OLED的優良性能使得其配件—掩模板得到了前所未有的發展空間。通常，在制造發光顯示器時，掩模被用來沉積具有預定圖形的層，即當沉積諸如有機層的層時，利用具有特定圖形的孔的掩模，在基底上形成具有對應與孔的圖形的層。目前比較普遍的是平面金屬掩模板，但隨著科學技術的日新月異，電子元器件的功能需求也朝著多元化，特殊化方向發展，相應轉移用平面蒸鍍掩模板已不能滿足這一要求。

在過去的金屬掩模板制造過程中，由于曝光時掩模的精度和蝕刻的精度對作為最終制品的金屬掩模額度圖案精度影響很大，故在各工序中必須高精度地管理圖形的尺寸精度。可是在過去的制造中，由于在線膨脹系數大的鉻、不銹鋼等的金屬上形成金屬掩模板，所以產生于金屬材料上的微小溫差使制得的每個金屬掩模的尺寸精度不同，存在很難獲得相同尺寸精度的金屬掩模的問題。從材質來講，一般在線膨脹系數大的金屬上形成的金屬掩模板，產生于金屬材料上的微小溫差使制得的每個金屬掩模的尺寸精度不同，存在很難獲得相同尺寸精度的金屬掩模的問題。而鎳鐵合金則因為加入了鐵元素，從而提高了掩模板的硬度及磁性，并且在該范圍內，鐵含量越高，掩模板的熱膨脹系數越低，應用于蒸鍍工藝過程時，有機材料的蒸鍍位置進度越高。因瓦合金通常含有32%-36%的鎳，因瓦合金也叫不脹鋼，其平均膨脹系數一般為1.5×10-6℃。含鎳在36%時達到1.8?×10-8℃，且在室溫－80℃到100℃時均不發生變化。含鎳量在一定范圍內的增減會引起鐵、鎳合金線膨脹系數的急劇變化。因此對于精度要求很高的蒸鍍用掩模板，因瓦合金是首選的材料。其他材料均會因為在蒸鍍過程中受熱而膨脹影響精度，從而大大影響了產品質量。

但同時因瓦合金都是采用熔煉的方法獲得的，耗能高，技術要求高，因而價格也是相當高。嚴重限制了因瓦合金的發展前景。

因此，現有技術的平面蒸鍍掩模板，及用于蒸鍍掩模板的材料，嚴重阻礙了發光顯示器的發展。用現有技術的平面蒸鍍掩模板生產的發光顯示器滿足不了市場對其的高要求。

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發明內容

本發明要解決的技術問題是提供高鐵含量的立體三維蒸鍍掩模板,具有凹陷區域和凸起區域，且只由鐵和鎳兩種元素構成，該掩模板精度高、均勻性高，板面質量和開口質量好，線性熱膨脹系數極小，很好地滿足蒸鍍要求。

為了解決上述技術問題，本發明采取的技術方案如下：

一種蒸鍍掩模板，包括圖形開口區域，其特征在于，具有三維立體結構，所述三維立體結構由凹陷區域和凸起區域構成，所述凹陷區域為比掩模板板面低的凹陷結構，所述凸起區域比掩模板板面高的凸起結構；所述掩模板的材料包括鐵和鎳兩種元素；所述鐵元素的含量為63%～65%，所述鎳元素的含量為35%～37%。

優選的，所述鐵含量為63%，鎳的含量為37%。

更優選的，所述鐵含量為64%，鎳的含量為36%。

更優選的，所述鐵含量為65%，鎳的含量為35%。

所述凹陷區域在掩模板的一面，所述凸起區域在掩模板的另一面，所述凹陷區小于所述凸起區域。

優選的，所述的凹陷區域的深度≤10μm，凸起區域的高度≤10μm。

更優選的，所述的凹陷區域的深度≤1μm，凸起區域的高度≤1μm。

優選的，所述的圖形開口尺寸為0.01-0.5mm。

更優選的，所述的圖形開口尺寸為10-100μm。

所述凹陷區域與掩模板板面形成夾角的范圍為80⁰～90⁰，所述凸起區域與掩模板板面形成夾角的范圍為80⁰～90⁰。

????所述掩模板的厚度為10～100um，所述的鎳鐵合金鍍層的均勻性COV小于5%；所述的鎳鐵合金鍍層表面光亮度為一級光亮。