[發(fā)明專(zhuān)利]蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210010689.7
• 申請(qǐng)日: 2012-01-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103205677A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏志凌;高小平;孫倩
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/04
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/04;C23C14/24;C23F1/02;H01L51/56
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，采用雙面蝕刻工藝，包括如下幾個(gè)步驟：

a)?選取厚度為15～200μm金屬或合金薄板作為掩模板材料，掩模板材料的一個(gè)面為和半導(dǎo)體玻璃接觸的ITO面，另一個(gè)面作為蒸鍍面；

b)從掩模板材料的ITO面蝕刻形成網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)；

c)?從掩模板的蒸鍍面刻蝕形成溝槽開(kāi)口(2)，并使溝槽開(kāi)口(2)?與網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)中心重合；且蒸鍍面的槽狀開(kāi)口（2）孔壁具有一定凹弧度，形成了30～50°蒸鍍錐角；

d)?通過(guò)對(duì)ITO面和蒸鍍面蝕刻時(shí)間的控制，得到所需要的溝槽開(kāi)口(2)與網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)的開(kāi)口深度；網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)深度為5～50μm，橫向尺寸為50～70μm，網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)的尺寸精度控制在±5μm；溝槽開(kāi)口(2)深度為10～150μm，橫向尺寸為80～140μm，

e)?通過(guò)蝕刻，制得具有ITO面小尺寸網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)與蒸鍍面大尺寸溝槽開(kāi)口(2)相貫通形成葫蘆狀溝槽的掩模板；

其中，所述掩模板形狀為四邊形，ITO面的網(wǎng)格狀開(kāi)口(1)?橫向和縱向之間均具有實(shí)橋；溝槽開(kāi)口(2)橫向之間具有實(shí)橋；所述掩模板上在ITO面上的網(wǎng)格狀開(kāi)口尺寸小于在蒸鍍面上的溝槽的開(kāi)口尺寸。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于所述掩模板為矩形，厚度為10～150μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于溝槽狀開(kāi)口在掩模板的厚度方向上垂直剖面圖為葫蘆狀，ITO面開(kāi)口和蒸鍍面的槽狀開(kāi)口均具有倒錐角，ITO面開(kāi)口的倒錐角角度小于蒸鍍面的槽狀開(kāi)口的倒錐角的角度；蒸鍍面溝槽開(kāi)口的錐角在30～50°，且溝槽開(kāi)口(2)中心對(duì)稱(chēng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于所述的ITO面的橫向尺寸精度控制在±5μm；在ITO面開(kāi)口為矩形網(wǎng)孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于ITO面的倒錐角開(kāi)口的垂直厚度小于等于蒸鍍面錐角開(kāi)口的垂直厚度。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于掩模板材料為不銹鋼、純鎳、鎳鈷合金、鎳鐵合金、因瓦合金中的任意一種金屬板；掩模板厚度為10～100μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于ITO面的倒錐角開(kāi)口的垂直深度在5～25μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于蒸鍍面槽狀開(kāi)口側(cè)壁為光滑錐壁。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模版的制備方法，其特征在于ITO面的網(wǎng)格狀開(kāi)口側(cè)壁為光滑倒錐角，錐度為0-8°。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍用溝槽掩模板的制備方法，其特征在于所述掩模板使用時(shí)，ITO面與蒸鍍基板ITO玻璃緊密貼緊，有機(jī)材料通過(guò)蒸鍍面面槽狀開(kāi)口和ITO面網(wǎng)格狀開(kāi)口蒸鍍到ITO玻璃基板上。