[發明專利]光刻裝置及器件制造方法

有效

• 申請號: 201210010399.2
• 申請日: 2007-04-06
• 公開（公告）號: CN102495539A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: M·維克曼斯;M·A·W·崔帕斯;F·E·德瓊格;E·A·M·范岡佩爾;R·詹森;G·A·A·M·庫斯特斯;T·P·M·卡迪;M·F·P·斯米茨;F·范德穆倫;W·F·J·西蒙斯;M·H·A·利恩德斯;J·J·奧坦斯;M·范巴倫
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 王波波

1.一種光刻設備，布置成將圖案從構圖部件投影到基底上，光刻設備包括配置成通過調節流體而調節物體的溫度的調節系統，所述物體是基底臺、掩模臺或用于基底臺的承載，其中調節系統包括壓力阻尼器，所述壓力阻尼器與調節系統流體連通并且布置成抑制調節系統內由于物體的加速引起的物體外側的調節流體壓力變化。

2.如權利要求1所述的設備，其中所述物體內設置有一個或多個調節通道用以通過其中輸送調節流體。

3.如權利要求1或2所述的設備，其中調節系統包括調節流體供給裝置，配置成輸送調節流體至所述物體。

4.如權利要求1或2或3所述的設備，其中調節系統包括調節流體去除裝置，配置成輸送調節流體離開所述物體。

5.如權利要求1-4中任一項所述的設備，其中調節系統還包括用于從所述物體外部增加調節流體至所述物體的通道，和用于從所述物體移除調節流體至物體外部的通道。

6.如權利要求1-5中任一項所述的設備，其中壓力阻尼器包括具有通過活動元件分開的兩個隔室的殼體，其中一個隔室連接至調節系統。

7.如權利要求1-5中任一項所述的設備，其中壓力阻尼器包括在一側與調節系統流體連通的活動元件，和連接至活動元件并且在使用時用于提供恒定的力至活動元件的致動器。

8.如權利要求1-5中任一項所述的設備，其中調節系統配置成使得調節流體至少部分地在所述基底臺周圍的回路中循環而不會離開所述物體。

9.如權利要求1-8中任一項所述的設備，還包括至少一個限流器，所述限流器處于所述調節系統中的調節流體的流路中。

10.如權利要求9所述的設備，其中所述限流器處于所述物體內的所述流路的一部分中。