[發(fā)明專利]一種塑料基材上鍍鋁膜的方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210009987.4 | 申請(qǐng)日: | 2012-01-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102424950A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙瑋;周志文;李民英 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/20 | 分類號(hào): | C23C14/20;C23C14/08;C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京連城創(chuàng)新知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11254 | 代理人: | 劉伍堂 |
| 地址: | 523718 *** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 塑料 基材 鍍鋁 方法 | ||
1.一種塑料基材上鍍鋁膜的方法,包括:
第一步:將工件經(jīng)過(guò)超聲波除油、清洗、烘干后送入磁控濺射裝置,然后抽真空至5E-3Pa;
第二步:進(jìn)行磁控濺射鍍摻鋁氧化鋅AZO薄膜,將本底抽真空至5E-3Pa,濺射氣體為氬氣,氣壓0.1Pa-0.9Pa,濺射功率2-5w/cm2,沉積時(shí)間為20——50s;
第三步:停止AZO鍍膜,關(guān)閉濺射電源,關(guān)閉工藝氣體氬氣,將鍍膜室本底真空抽至5E-3Pa;
第四步:進(jìn)行磁控濺射鍍鋁薄膜,將本底抽真空至5E-3Pa,濺射氣體為氬氣,濺射氣壓0.1Pa-0.9Pa,濺射功率2-5w/cm2,沉積時(shí)間約70——100s。
2.如權(quán)利要求1所述的一種塑料基材上鍍鋁膜的方法,其特征在于,所述的塑料基材上鍍的摻鋁氧化鋅AZO厚度為10——100nm,沉積的鋁膜厚度為60——300nm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司,未經(jīng)廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210009987.4/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





