[發明專利]無掩膜直寫式光刻機系統中圖形數據灰度值的計算方法

無效

• 申請號: 201210009369.X
• 申請日: 2012-01-13
• 公開（公告）號: CN102566312A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 盧云君;蔣興華;李顯杰
• 申請（專利權）人: 合肥芯碩半導體有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112
• 代理人: 方崢

1.一種無掩膜直寫式光刻機系統中圖形數據灰度值的計算方法，包括有使用空間光調制器（SLM）作為圖形發生器的無掩膜直寫式光刻機系統，照明光源發出的光經過聚光鏡系統匯聚、均勻化以后以特定角度入射到SLM上，SLM接收到數字化的灰度數據后，調制SLM的微鏡翻轉的占空比或微鏡重復曝光的次數，實現曝光能量的灰度調制，得到的不同灰階的曝光能量通過遠心成像系統成像在基底上；其特征在于：所述基底上的曝光圖形分為內部區域、邊緣區域，內部區域直接曝光白圖，邊緣區域由灰度來表示，邊緣區域的灰度值由圖形相應的矢量數據通過精確計算產生，所述的邊緣區域的圖形包括直線邊緣和弧線邊緣，還包括有直線邊緣或弧線相交所構成的頂點，邊緣區域的灰度值的大小等于曝光圖形覆蓋SLM像素的面積的大小。

2.根據權利要求1所述的一種無掩膜直寫式光刻機系統中圖形數據灰度值的計算方法，其特征在于：采用反走樣算法中利用圖形方向來判斷SLM像素被覆蓋區域和未被覆蓋區域，進行灰度值計算的是對應被覆蓋部分。

3.根據權利要求1所述的一種無掩膜直寫式光刻機系統中圖形數據灰度值的計算方法，其特征在于：所述曝光圖形覆蓋SLM像素的面積是以梯形為基本計算單元。