[發明專利]超結器件的非平衡結終端結構有效
申請號: | 201210009183.4 | 申請日: | 2012-01-13 |
公開(公告)號: | CN102694027A | 公開(公告)日: | 2012-09-26 |
發明(設計)人: | 姜貫軍 | 申請(專利權)人: | 西安龍騰新能源科技發展有限公司 |
主分類號: | H01L29/78 | 分類號: | H01L29/78;H01L29/06 |
代理公司: | 西安新思維專利商標事務所有限公司 61114 | 代理人: | 李罡 |
地址: | 710021 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 器件 平衡 終端 結構 | ||
1.一種超結器件的非平衡結終端結構,其特征在于:所述的結終端結構的結終端區設置若干個摻雜濃度不同的均勻P柱。
2.根據權利要求1所述的超結器件的非平衡結終端結構的制造工藝,其特征在于:所述的制造工藝為根據各處的橫向電場分布情況從版圖設計上進行相應調整P柱的有效離子注入面積,使達到擊穿電壓時P柱區完全耗盡,所有P柱均是在P柱掩膜板掩膜下同時注入,從而控制了結終端區的各P柱的受主離子總量,并通過多次外延多次離子注入之后進行長時間高溫推結形成摻雜濃度不同的幾個均勻的P柱。
3.根據權利要求1所述的超結器件的非平衡結終端結構,其特征在于:所述的P柱的掩膜板上設置有不連續的阻擋圖形,通過調整不同的P柱的阻擋圖形的大小與數目,決定了P柱的有效離子注入面積,而在摻雜濃度相同的P柱的結終端結構中,達到擊穿電壓時,各個P柱均有未耗盡區,在非平衡結終端結構中阻擋圖形的大小和數目與上述摻雜濃度相同的P柱的結終端結構中未耗盡區面積成正比。
4.根據權利要求3所述的超結器件的非平衡結終端結構,其特征在于:所述的阻擋圖形為直徑為0.5~2um的圓形或正六邊形的規則幾何圖形,并且在P柱掩膜板上均勻排布。
5.根據權利要求1或3所述的超結器件的非平衡結終端結構,其特征在于:所述的結終端結構的結終端區的P柱間的間距相等或者不等,其寬度與元胞區相同或者適當調整以更好地優化電場分布情況,使得達到擊穿電壓時,各P柱與N外延層相成的PN結的電場接近臨界電場。
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