[發明專利]冗余金屬填充方法及其系統

有效

• 申請號: 201210008543.9
• 申請日: 2012-01-12
• 公開（公告）號: CN102542119A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 方晶晶;陳嵐;葉甜春
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京市德權律師事務所 11302
• 代理人: 劉麗君

1.一種冗余金屬填充方法，其特征在于，包括：

將版圖劃分為若干不重疊的窗格；

根據基于規則的填充方法粗調所述窗格內的金屬密度；

根據基于模型的填充方法對所述窗格內的金屬密度進行細調修正。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據基于規則的填充方法粗調窗格內的金屬密度包括：

當設定的窗格的目標金屬密度與當前所述窗格的金屬密度的差值大于設定的窗格密度允許波動的范圍時，對當前所述窗格從包含不同密度和形狀大小的填充模板的模板庫中選擇金屬密度與所述差值之間的差值最小的填充模板，并采用布爾運算填充方法將所述填充模板填充至所述窗格。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于：

所述填充模板是冗余模板；所述冗余模板的冗余形狀為矩形或者正方形。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據基于模型的填充方法對所述窗格內的金屬密度進行細調修正包括：

當當前所述窗格的金屬密度未達到設定的窗格的目標金屬密度時，從包含不同密度和形狀大小的填充塊的圖形庫中選擇金屬密度小于當前窗格金屬密度且金屬密度與當前窗格的金屬密度之間的差值最小、周長最小的填充塊，并采用布爾運算填充方法對當前窗格進一步填充。

5.根據權利要求1-4任一項所述的方法，其特征在于，還包括：

制作包含不同密度與形狀大小的填充模板的模板庫和包含不同密度與形狀大小的填充塊的圖形庫；

設定窗格的目標金屬密度及窗格密度允許波動的范圍；及

計算當前窗格的金屬密度。

6.一種冗余金屬填充系統，其特征在于，包括：

窗格劃分模塊，用于將版圖劃分為若干不重疊的窗格；

第一填充模塊，用于根據基于規則的填充方法粗調所述窗格內的金屬密度；

第二填充模塊，用于根據基于模型的填充方法對所述窗格內的金屬密度進行細調修正。

7.根據權利要求6所述的冗余金屬填充系統，其特征在于，所述第一填充模塊包括：

第一填充模板選擇單元，用于當設定的窗格的目標金屬密度與當前所述窗格的金屬密度的差值大于設定的窗格密度允許波動的范圍時，對當前所述窗格從包含不同密度和形狀大小的填充模板的模板庫中選擇金屬密度與所述差值之間的差值最小的填充模板；

第一窗格填充單元，用于采用布爾運算填充方法將所述填充模板選擇單元選擇的填充模板填充至當前所述窗格。

8.根據權利要求7所述的冗余金屬填充系統，其特征在于：

所述填充模板是冗余模板；所述冗余模板的冗余形狀為矩形或者正方形。

9.根據權利要求6所述的冗余金屬填充系統，其特征在于，所述第二填充模塊包括：

第二填充模板選擇單元，用于當所述窗格的金屬密度未達到設定的窗格的目標金屬密度時，從包含不同密度和形狀大小的填充塊的圖形庫中選擇金屬密度小于當前窗格金屬密度且金屬密度與當前窗格的金屬密度之間的差值最小、周長最小的填充塊；

第二窗格填充單元，用于采用布爾運算填充方法將所述第二填充模板選擇單元選擇的填充塊填充至所述窗格。

10.根據權利要求6-9任一項所述的冗余金屬填充系統，其特征在于，還包括：

制作模塊，用于制作包含不同密度與形狀大小的填充模板的模板庫和包含不同密度與形狀大小的填充塊的圖形庫；

設定模塊，用于設定窗格的目標金屬密度及窗格密度允許波動的范圍；

密度計算模塊，用于計算當前窗格的金屬密度。