[發(fā)明專利]一種利用超臨界水氧化污泥的方法和裝置有效
申請?zhí)枺?/td> | 201210008072.1 | 申請日: | 2012-01-04 |
公開(公告)號: | CN103193371A | 公開(公告)日: | 2013-07-10 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 程樂明;張玉寶;王青;谷俊杰;高志遠;趙曉;宋慶峰;李成學(xué);田文堂;谷蔚;曹雅琴;杜娟;宋成才 | 申請(專利權(quán))人: | 新奧科技發(fā)展有限公司 |
主分類號: | C02F11/06 | 分類號: | C02F11/06;C02F1/72;C10L3/00;B01D19/02;B01D21/02 |
代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
地址: | 065001 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 臨界 氧化 污泥 方法 裝置 | ||
1.一種利用超臨界水氧化污泥的方法,包括如下步驟:
將污泥進行部分氧化,得到包含可燃氣體的反應(yīng)后物料;和
將所述反應(yīng)后物料中的可燃氣體進行分離,得到可燃氣體,并得到含有有機質(zhì)的液體物料以及固體物料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述部分氧化的反應(yīng)溫度為374-700℃,壓力為22.1-35MPa,并且其中氧化劑的用量為污泥有機質(zhì)耗氧量的0.5-30%(w/w)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述部分氧化反應(yīng)的溫度為500-650℃,壓力為23-30MPa,并且其中氧化劑的用量為污泥有機質(zhì)耗氧量的2-15%(w/w)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,還包括如下步驟:
將含有有機質(zhì)的液體物料分離出來;和
用足量氧化劑對分離得到的含有有機質(zhì)的液體物料進行完全氧化。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的方法,其中,將所述反應(yīng)后物料中的可燃氣體進行分離是在反應(yīng)體系的壓力下進行的。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中,所述完全氧化反應(yīng)的溫度為374-700℃,壓力為22.1-35MPa,并且所述氧化劑的用量為污泥有機質(zhì)耗氧量的100-150%(w/w);優(yōu)選105-130%(w/w)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2至6中任一項所述的方法,其中,所述氧化劑為O2和/或H2O2。
8.一種利用超臨界水氧化污泥的裝置,包括:
部分氧化單元,用于將污泥進行部分氧化,得到包含可燃氣體的反應(yīng)后物料;和
可燃氣體分離單元,用于將所述反應(yīng)后物料中的可燃氣體進行分離,得到分離后物料。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置,其中,還包括完全氧化單元,用于將所述分離后物料進行完全氧化。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的裝置,其中,所述可燃氣體分離單元包括三相分離器,所述三相分離器包括上端面、下端面、物料入口(1)、氣體出口(3)、過濾擋板(4)、器壁(5)、液體過濾器(6)、液體出口(7)、冷卻夾套(9)或冷卻盤管(13)、以及出渣口(11);所述氣體出口(3)設(shè)置在過濾擋板(4)上方的所述三相分離器的器壁上,所述液體出口(7)的前端連接液體過濾器(6),所述三相分離器的下端設(shè)置成錐形的出渣口(11);所述三相分離器上端面和下端面分別密封;所述冷卻夾套(9)或冷卻盤管(13)分別具有冷卻介質(zhì)進口(8)和冷卻介質(zhì)出口(12)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中,所述三相分離器通過上法蘭(2)和下法蘭(10)和/或錐形底進行上端面和下端面的密封。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中,所述三相分離器被構(gòu)造成如下的1)-4)中的任一項或多項:
1)所述物料入口(1)的下端結(jié)構(gòu)為錐形擴徑或擴徑彎管結(jié)構(gòu);
2)所述物料入口(1)的入口管的出口部分為弧形管;
3)所述液體過濾器(6)位置設(shè)在三相分離器的內(nèi)部或外部;
4)所述過濾擋板(4)和液體過濾器(6)均為多孔結(jié)構(gòu)。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置,其中,所述三相分離器的物料入口(1)方向與所述三相分離器內(nèi)壁面的對應(yīng)處設(shè)置有物料螺旋導(dǎo)流凹槽(14)結(jié)構(gòu)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置,其中,所述三相分離器的物料入口(1)的下端向所述三相分離器的側(cè)壁傾斜,使物料向三相分離器的側(cè)壁噴射,并沿著螺旋導(dǎo)流凹槽(14)向下流動。
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