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[發明專利]一種無損檢測金屬材料噴丸層顯微硬度的方法無效

專利信息
申請號: 201210007602.0 申請日: 2012-01-11
公開(公告)號: CN102590249A 公開(公告)日: 2012-07-18
發明(設計)人: 姜傳海;詹科;吳雪艷;謝樂春;馮強 申請(專利權)人: 上海交通大學
主分類號: G01N23/20 分類號: G01N23/20
代理公司: 上海科盛知識產權代理有限公司 31225 代理人: 林君如
地址: 200240 *** 國省代碼: 上海;31
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摘要:
搜索關鍵詞: 一種 無損 檢測 金屬材料 噴丸層 顯微 硬度 方法
【說明書】:

技術領域

發明涉及一種金屬材料硬度檢測的方法,尤其是涉及一種無損檢測金屬材料噴丸層顯微硬度的方法。

背景技術

硬度是指材料在另一硬材料壓入表面時,抵抗塑性變形的能力,是材料力學性能的重要指標之一。在工業生產中應用廣泛。傳統的顯微硬度測量首先需要在工件上切割出小試樣,進行鑲樣拋光,然后通過硬質壓頭壓入表面,測量壓痕面積,結合加載載荷計算出材料硬度值。傳統方法受干擾因素較多,如試樣表面是否平整、測試時試樣是否水平、壓痕是否清晰均引起測量值出現偏差。關鍵對被測試樣尺寸有限制,只能檢測小試樣硬度從而代表整體硬度,不能對大型件表面各微觀區域直接測量,測量結果與實際工件部位可能會出現偏差。

噴丸強化技術,通過在材料表層引入殘余壓應力以及細化表層微觀組織,可以有效提高金屬工件疲勞性能,目前廣泛應用于工業界。其中殘余應力以及顯微硬度值為噴丸強化效果的兩項重要指標。X射線衍射技術,理論基礎比較嚴謹,實驗技術日漸完善,受試樣表面狀態影響較小,衍射數據準確,測量結果十分可靠。目前,X射線應力儀可以在大型工件表面直接測量殘余應力。而顯微硬度則需要另外制備小試樣在顯微硬度計上進行測量。如果在測量殘余應力同時,結合衍射結果來表征材料硬度,將更加直接便捷、有效。

經對現有技術文獻的檢索發現,M.Furukawa等人在《Acta?Materialia,1996,Vol.44,No.11,p4619-4629》(材料學報,2003年,44卷,第11期,第4619-4629頁)上發表“Microhardness?measurements?and?the?Hall-Petch?relationship?in?an?Al-Mg?alloy?with?submicrometer?grain?size”論文,研究了Al-Mg材料中顯微硬度隨晶粒大小的變化規律。發現顯微硬度隨晶粒增大而減小。G.K.Williamson等人在《Acta?Metallurgica,1953,VOL.1,No.1?p21-31》(冶金學報,1953年,1卷,第1期,第21-31頁)上發表了“X-ray?linebroadening?from?filed?aluminum?and?wolfram”論文,研究了X射線衍射半高寬與晶粒大小的關系。發現X射線衍射半高寬隨晶粒增大而變窄。因此,通過建立半高寬與晶粒大小,以及晶粒大小與顯微硬度的關系,從而可以通過X射線衍射結果直接獲得材料顯微硬度值。

發明內容

本發明的目的就是為了克服上述現有技術存在的缺陷而提供一種方便快捷、無需破壞試樣、X射線硬度測量結果可靠性高的無損測量金屬噴丸處理后顯微硬度的方法。

本發明的目的可以通過以下技術方案來實現:

一種無損檢測金屬材料噴丸層顯微硬度的方法包括以下步驟:

(1)利用氣壓式噴丸機對金屬材料進行噴丸處理,并對該金屬材料噴丸層進行X射線衍射測量獲取衍射半高寬;

(2)利用傳統顯微硬度測量方法,結合電化學腐蝕剝層技術對噴丸試樣表面顯微硬度進行測量;

(3)以衍射半高寬為橫坐標,以顯微硬度為縱坐標,建立半高寬與顯微硬度之間的關系;

(4)測量金屬材料不同區域衍射半高寬,通過建立的半高寬與顯微硬度之間的關系,將測量點衍射半高寬代入計算公式中,求出所測點的顯微硬度。

所述的噴丸處理中,將原始材料制備成30×10×5mm3試樣,對于低強度材料,噴丸強度應介于0.1~0.2mmA,中等強度材料應介于0.2~0.5mmA,而對于超高強度材料,噴丸強度應大于0.5mmA,噴丸時間30~90秒。

所述的進行X射線衍射測量時,依據不同的測試材料選擇高角衍射晶面。其工作原理是,X射線照射在晶體材料表面時,當衍射方向與衍射晶面符合布拉格衍射方程時,相應的衍射峰就會出現加強,衍射線形是由晶體材料的微結構決定,衍射半高寬是衍射線形的一個重要參數。晶粒越大衍射半高寬越窄,在測量過程中通過濾波片過濾Ka2衍射線,確保衍射X射線的單色性,從而保證了測量結果的可靠性。通過衍射峰形直接獲得半高寬。

對奧氏鋼體進行X射線衍射測量時,選擇Mn-Kα輻射,Fe(311)衍射晶面,Cr濾波片。

對普通碳鋼進行X射線衍射測量時,選擇Cr-Kα輻射,Fe(211)衍射晶面,Ni濾波片。

所述的電化學剝層技術是在電壓6V,電流1A下,以飽和NaCl溶液為電解質,剝層每次0.01mm,共十次。

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