[發明專利]激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器

有效

• 申請號: 201210007155.9
• 申請日: 2012-01-11
• 公開（公告）號: CN102570283A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發明（設計）人: 許曉軍;張漢偉;王紅巖;楊子寧;習鋒杰
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科學技術大學
• 主分類號: H01S3/227
• 分類號: H01S3/227;B82Y20/00
• 代理公司: 湖南兆弘專利事務所 43008
• 代理人: 趙洪;楊斌

1.一種激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，所述流動納米顆粒稀土離子激光器包括泵浦激光器(4)、氣體工作室(3)和諧振腔，所述氣體工作室(3)中填充有可被所述泵浦激光器(4)發出的泵浦光(5)激發至高能態的增益介質(6)，其特征在于：所述增益介質(6)主要為包含稀土離子的納米顆粒；所述氣體工作室(3)通過連接管道(11)連通至一循環控制裝置(10)。

2.根據權利要求1所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述增益介質(6)主要為量子效率比較高的稀土離子氧化物、含稀土離子晶體或者含稀土離子陶瓷的納米顆粒。

3.根據權利要求2所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述稀土離子氧化物純度在99.9％以上，所述含稀土離子晶體或者陶瓷的納米顆粒的摻雜濃度為15atm.％～100atm.％。

4.根據權利要求1、2或3所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述納米顆粒的平均粒徑為1nm～500nm。

5.根據權利要求1、2或3所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述稀土離子在近紅外波段為Yb³⁺或Nd³⁺。

6.根據權利要求1、2或3所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述泵浦激光器(4)發出的泵浦光(5)是從所述氣體工作室(3)的側面直接對所述增益介質(6)進行泵浦。

7.根據權利要求1、2或3所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述泵浦激光器(4)發出的泵浦光(5)是從所述氣體工作室(3)的端面經耦合鏡系統(14)和諧振腔組成鏡面后對所述增益介質(6)進行泵浦。

8.根據權利要求1、2或3所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述循環控制裝置(10)主要由相互連接的循環氣泵(15)和流量閥(16)組成。

9.根據權利要求1、2或3所述的激光泵浦的流動納米顆粒稀土離子激光器，其特征在于：所述連接管道(11)上還設有防團簇控制裝置(12)，所述防團簇控制裝置(12)包括固定于連接管道(11)上的玻璃窗口(19)和用于輻照玻璃窗口(19)內團簇顆粒的防團簇激光器(17)。