[發(fā)明專利]掩模板夾持框有效
申請?zhí)枺?/td> | 201210006853.7 | 申請日: | 2012-01-11 |
公開(公告)號: | CN103207517B | 公開(公告)日: | 2019-02-12 |
發(fā)明(設計)人: | 魏志凌;高小平 | 申請(專利權)人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64 |
代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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摘要: | |||
搜索關鍵詞: | 模板 夾持 | ||
1.一種掩模板夾持框,其特征在于,包括主框架、連桿、固定夾頭和活動夾頭,所述連桿設置于所述主框架上,所述固定夾頭固定于所述連桿的一端,所述活動夾頭設置于所述連桿的另一端并可在所述連桿上滑動,所述固定夾頭和活動夾頭用于夾持帶外框的掩模板;所述活動夾頭通過鎖緊裝置固定于所述連桿任意位置上,能夾持不同尺寸的帶外框的掩模板;所述鎖緊裝置包括加號旋鈕、固定片和“工”形結構,所述加號旋鈕和固定片分別位于所述活動夾頭的上下兩端,所述加號旋鈕與所述固定片動配合;所述“工”形結構與所述連桿上的凹槽相吻合,通過所述加號旋鈕的旋緊,在所述凹槽內(nèi)的所述固定片緊貼所述凹槽,從而將所述活動夾頭固定在所述連桿上。
2.根據(jù)權利要求1所述的掩模板夾持框,其特征在于,所述活動夾頭的非夾持面上設有拉手,用于拉動所述活動夾頭在所述連桿上滑動。
3.根據(jù)權利要求1所述的掩模板夾持框,其特征在于,在所述的活動夾頭上設有兩套所述鎖緊裝置。
4.根據(jù)權利要求1-3任一所述的掩模板夾持框,其特征在于,所述連桿為兩根,置于所述主框架內(nèi)。
5.根據(jù)權利要求1-3任一所述的掩模板夾持框,其特征在于,在所述掩模板夾持框的四個角上設置有連接結構,通過所述連接結構與螺絲的配合可將所述掩模板夾持框固定于其它機構上。
6.根據(jù)權利要求1-3任一所述的掩模板夾持框,其特征在于,所述主框架體為矩形結構。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備