[發明專利]降膜分布器

無效

• 申請號: 201210005917.1
• 申請日: 2012-01-10
• 公開（公告）號: CN103191576A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 沈正陽;沈波
• 申請（專利權）人: 江蘇鵬宇化工有限公司
• 主分類號: B01D9/02
• 分類號: B01D9/02;C07C25/08;C07C17/392
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 奚衡寶

技術領域

本發明涉及一種降膜分布器，屬于降膜結晶器部件。

背景技術

在對（鄰）二氯苯結晶過程中，降膜分布器的結構對于結晶效率和質量均具有很重要的影響；為了提高物料結晶效率，降膜分布器的設置應使物料均勻分布、流動穩定；而現有的降膜分布器其結構形式不能很好的滿足上述要求，導致物料的結晶效率、質量受到很大影響，均進一步改進。

發明內容

本發明針對上述缺陷，目的在于提供一種使物料布料使能均勻分布、且流動穩定的降膜分布器。

為此本發明采用的技術方案是：本發明包括筒體和設置在筒體內的由若干個連續四方形孔形成的物料分布通道。

所述四方形孔為菱形。

本發明的優點是：本發明采用四方形孔作為降膜分布器的通道，其原因是采用四方形孔其通道設置方式可連續且均勻，相鄰孔和孔之間沒有間斷，從而保證降膜分布器其各個部分物料能沿其截面均勻分布、物料流動穩定；進一步的本發明的方形孔為菱形，菱形的結構設置進一步保證了單個孔上的各個部分物料分布均勻，使降膜分布器整體受力均勻，保證物料流動的穩定性，從而使物料結晶效率和質量得到保證。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖。

圖中1為筒體、2為四方形孔。

具體實施方式

本發明包括筒體1和設置在筒體1內的由若干個連續四方形孔2形成的物料分布通道。

優選的，本發明的所述四方形孔2為菱形。

本發明的四方形孔2沿結晶器截面均勻分布，相互四方形孔2之間連續無間斷。