[發明專利]一種反滲透膜的清洗方法

有效

• 申請號: 201210005663.3
• 申請日: 2012-01-10
• 公開（公告）號: CN102527244A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 李江;郭春禹;吉春紅;鄭東晟;海龍洋;楊慧敏;趙雪娜;郭嘉;朱東華;楊昆;王曉琴
• 申請（專利權）人: 藍星環境工程有限公司
• 主分類號: B01D65/06
• 分類號: B01D65/06;B01D61/10;C02F1/44
• 代理公司: 北京五月天專利商標代理有限公司 11294
• 代理人: 梁慶豐

1.一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于包括如下步驟：

a將發生污染的反滲透膜元件放入水槽中浸泡；

b將沖洗干凈的反滲透膜元件使用酸性清洗劑進行清洗；

c將沖洗干凈的反滲透膜元件置于堿性清洗劑中浸泡；

d將反滲透膜元件使用堿性清洗劑進行清洗。

2.如權利要求1所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于步驟2可延后至步驟3和4之后執行。

3.如權利要求1所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于步驟1水槽中添加有非氧化性殺菌劑，所述非氧化性殺菌劑為10-300ppm異噻唑啉酮或0.1%-1.5%質量濃度的甲醛溶液。

4.如權利要求1所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于所述堿性清洗劑包括：

0.1-0.2%質量濃度的十二烷基苯磺酸鈉；

0.1-2%質量濃度的三聚磷酸鈉，乙二胺四乙酸四鈉或二乙烯三胺五羧酸五鈉；

1-10%質量濃度的氯化鈉，硝酸鈉，氯化鉀或硝酸鉀；

0.1-2.0%質量濃度的醇、酮；

堿，其中堿的添加量為使水溶液的pH值達到10-12。

5.如權利要求1所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于所述酸性清洗劑包括：

0.05-1.0%質量濃度的亞硫酸氫鈉；

1-10%質量濃度的氯化鈉，硝酸鈉，氯化鉀或硝酸鉀；

酸、殺菌劑和水；

所述酸的添加量為使水溶液的pH值達到２-3。

6.如權利要求1所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于步驟2包括將膜元件從水槽中取出，并用清水或膜的產水將殘留的清洗劑沖洗干凈，之后再將膜元件裝入反滲透膜離線清洗設備；對膜元件用酸性清洗劑進行清洗，單支膜元件的沖洗流量為0-10t/h、沖洗時間為2-12h、沖洗溫度為15-45℃、入口壓力0.1-0.3MPa。

7.如權利要求1所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于步驟4包括將反滲透膜元件裝入反滲透膜離線清洗設備，對膜元件用堿性清洗劑進行清洗，單支膜元件的沖洗流量為0-10t/h、沖洗時間為2-12h、沖洗溫度為15-45℃、入口壓力0.1-0.3MPa。

8.如權利要求7所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于，為了加強清洗效果，清洗過程中可以使用清洗劑沖刷與清洗劑浸泡相結合、正向洗與反向洗相結合的方式進行，即正向洗30min后，不拆卸膜元件的前提下休止30min，再反向洗30min，之后休止30min，以此方式實現連續清洗與間歇清洗、正向洗與反向洗的交替過程。

9.如權利要求8中所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于所述正向洗是指沖洗水流方向與膜元件在原反滲透系統中運行時水流的方向相同，反向洗是指沖洗水流方向與膜元件在原反滲透系統中運行時水流的方向相反。

10.如權利要求8中所述的一種反滲透膜的清洗方法，其特征在于所述休止可以通過關閉清洗劑水泵實現，為了保持污染物不發生沉淀，也可將清洗劑流量調節至清洗流量的5%以下實現休止。

11.如權利要求6所述的反滲透膜的清洗方法，其特征在于反滲透膜離線清洗設備中反透膜壓力容器的產水側與產水高位水箱連接，產水高位水箱液面在清洗過程中高于反滲透膜壓力容器1-5m。