[發明專利]光盤重放設備、方法及系統

有效

• 申請號: 201210005653.X
• 申請日: 2012-01-10
• 公開（公告）號: CN102956243A
• 公開（公告）日: 2013-03-06
• 發明（設計）人: J·M·福萊恩德
• 申請（專利權）人: LSI公司
• 主分類號: G11B7/09
• 分類號: G11B7/09
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 楊國權

1.一種光盤重放設備，包括：

第一激光器和第二激光器；

光學組件；

第一光學檢測器和第二光學檢測器；以及

與所述光學檢測器耦合的控制器電路；

所述光學組件被配置為引導來自所述第一激光器和所述第二激光器的入射光，從而在光盤的表面上形成相應的前導掃描點和尾隨掃描點；

所述光學組件還被配置為將來自所述光盤的表面上的所述前導掃描點和所述尾隨掃描點的對應的反射光引導至所述光學檢測器中的相應檢測器；

其中所述控制器電路被配置為在所述尾隨掃描點到達光盤的表面缺陷之前，通過處理與所述前導掃描點相關聯的反射光來識別所述光盤的表面缺陷。

2.根據權利要求1所述的光盤重放設備，其中所述控制器電路還被配置為響應于對所述表面缺陷的識別而啟動錯誤恢復算法。

3.根據權利要求1所述的光盤重放設備，其中所述第一激光器和所述第二激光器被配置為生成不同波長的入射光。

4.根據權利要求3所述的光盤重放設備，其中所述第一激光器具有適于從第一類型的光盤讀取存儲的信息的波長，以及所述第二激光器具有適于從不同于所述第一類型的光盤的第二類型的光盤讀取存儲的信息的波長。

5.一種光盤重放方法，包括：

使用來自相應的第一激光器和第二激光器的入射光在光盤的表面上形成前導掃描點和尾隨掃描點；

檢測來自所述前導掃描點和所述尾隨掃描點的反射光；以及

在所述尾隨掃描點到達光盤的表面缺陷之前，通過處理與所述前導掃描點相關聯的所述反射光來識別所述光盤的表面缺陷。

6.根據權利要求5所述的光盤重放方法，還包括響應于對所述表面缺陷的識別而啟動錯誤恢復算法的步驟。

7.根據權利要求5所述的光盤重放方法，還包括顯示表明所述表面缺陷已被識別的消息的步驟。

8.根據權利要求5所述的光盤重放方法，還包括對啟用所述前導掃描點的生成和禁用所述前導掃描點的生成中的至少一個提供可選擇的選項的步驟。

9.一種非暫態的計算機可讀存儲介質，其中具有用于執行權利要求5所述的光盤重放方法的步驟的可執行代碼。

10.一種光盤重放系統，包括：

第一重放機構和第二重放機構；

所述第一重放機構和所述第二重放機構用于在所述光盤的表面上形成相應的前導掃描點和尾隨掃描點，并檢測來自相應的前導掃描點和尾隨掃描點的反射光；

其中在所述尾隨掃描點到達光盤的表面缺陷之前，通過處理與所述前導掃描點相關聯的反射光來識別所述光盤的表面缺陷。