[發(fā)明專(zhuān)利]緩蝕劑、其制備方法及化學(xué)機(jī)械拋光組合物

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210004900.4
• 申請(qǐng)日: 2012-01-09
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102586783A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 路新春;董瑩;戴媛靜;雒建斌
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): C23F11/14
• 分類(lèi)號(hào): C23F11/14;C07D257/06;C07D249/14;C09G1/02
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 李志東

1.一種緩蝕劑，其結(jié)構(gòu)式如下：

R₂＝H、-OH、-(CH₂)_nCH₃，其中n為0-4的整數(shù)。

2.一種緩蝕劑的制備方法，包括如下步驟：

以無(wú)水乙醇為溶劑，以氨基唑類(lèi)化合物、芳香醛、丙酮為原料，三者的摩爾比為1∶1.2∶1.2，在pH值2-3的條件下反應(yīng)，生成具有如權(quán)利要求1所述的緩蝕劑。

3.如權(quán)利要求2所述的制備方法，其中所述氨基唑類(lèi)化合物選自5-氨基四唑，3-氨基三唑。

4.如權(quán)利要求2所述的制備方法，其中所述芳香醛的結(jié)構(gòu)式如下：

其中R₃＝H、-OH、-(CH₂)_nCH₃，n為0-4的整數(shù)，其位置在醛基的鄰位、對(duì)位、間位。

5.一種化學(xué)機(jī)械拋光組合物，包括膠體SiO₂磨料1-20wt％、氧化劑0.5-10wt％、絡(luò)合劑0.1-10wt％、如權(quán)利要求1所述的緩蝕劑、pH調(diào)節(jié)劑和水，其中

所述氧化劑為無(wú)機(jī)或有機(jī)過(guò)氧化合物，其化合物分子中含至少一個(gè)過(guò)氧基團(tuán)或?yàn)楹刑幱诟哐趸瘧B(tài)元素的化合物中的任何一種或一種以上的混合物；

所述pH調(diào)節(jié)劑選自包括無(wú)機(jī)酸堿、有機(jī)酸堿的組；

所述絡(luò)合劑選自包括氨基乙酸、丙氨酸、谷氨酸、脯氨酸、羥谷氨酸、羥基乙叉二膦酸、氨基三甲叉膦酸、2-羥基膦酰基乙酸、乙酸、草酸、檸檬酸、草酰胺的組或它們?nèi)我獗壤慕M合物；

所述緩蝕劑的濃度為0.01-5wt％；

所述組合物的pH值為2-7；優(yōu)選為pH值為3-5；

所述水為去離子水或蒸餾水。

6.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)機(jī)械拋光組合物，其中所述緩蝕劑的濃度為0.01-0.5wt％。

7.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)機(jī)械拋光組合物，其中所述磨料為膠體二氧化硅，含量為3-5wt％，平均粒度為10-200納米；優(yōu)選為平均粒度為50-80納米。

8.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)機(jī)械拋光組合物，其中所述氧化劑為過(guò)氧化氫，含量為0.9-3wt％。

9.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)機(jī)械拋光組合物，其中所述絡(luò)合劑為氨基乙酸，含量為0.5-3wt％。

10.如權(quán)利要求5所述的化學(xué)機(jī)械拋光組合物，其中所述pH調(diào)節(jié)劑選自包括硫酸、鹽酸、硝酸、磷酸、氫氧化鉀、氨水、乙醇胺、三乙醇胺的組以及它們?nèi)我獗壤慕M合物。