[發(fā)明專利]研磨墊及研磨墊的制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210004655.7 | 申請日： | 2005-12-08 |
| 公開（公告）號： | CN102554766A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 小川一幸;下村哲生;數(shù)野淳;中井良之;渡邊公浩;山田孝敏;中森雅彥 | 申請（專利權(quán)）人： | 東洋橡膠工業(yè)株式會社 |
| 主分類號： | B24B37/22 | 分類號： | B24B37/22 |
| 代理公司： | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 研磨 制造 方法 | ||
1.一種研磨墊，其將具有研磨區(qū)域及透光區(qū)域的研磨層和具有比透光區(qū)域小的開口部B的緩沖層層疊，使得透光區(qū)域與開口部B重合，并且在所述透光區(qū)域的背面與所述開口部B的斷面的接觸部分，設(shè)有將該接觸部分覆蓋的環(huán)狀的不透水性彈性構(gòu)件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中，不透水性彈性構(gòu)件的ASKERA硬度在80度以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨墊，其中，不透水性彈性構(gòu)件是由含有選自由橡膠、熱塑性彈性體及反應(yīng)硬化性樹脂構(gòu)成的組中的至少一種不透水性樹脂的不透水性樹脂組合物制成。
4.一種制造權(quán)利要求1所述的研磨墊的方法，其包括：將具有研磨區(qū)域及透光區(qū)域的研磨層與具有比透光區(qū)域小的開口部B的緩沖層層疊，使得透光區(qū)域和開口部B重合的工序；以及通過在所述透光區(qū)域的背面與所述開口部B的斷面的接觸部分，涂布不透水性樹脂組合物而將其硬化，來形成將該接觸部分覆蓋的環(huán)狀的不透水性彈性構(gòu)件的工序。
5.一種制造權(quán)利要求1所述的研磨墊的方法，其包括：在具有研磨區(qū)域和用于插設(shè)透光區(qū)域的開口部A的研磨層上層疊緩沖層的工序；將所述開口部A內(nèi)的緩沖層的一部分除去，在緩沖層上形成比透光區(qū)域小的開口部B的工序；在所述開口部B上并且在所述開口部A內(nèi)設(shè)置透光區(qū)域的工序；以及通過在所述透光區(qū)域的背面與所述開口部B的斷面的接觸部分，涂布不透水性樹脂組合物而將其硬化，來形成將該接觸部分覆蓋的環(huán)狀的不透水性彈性構(gòu)件的工序。
6.一種制造權(quán)利要求1所述的研磨墊的方法，其包括：將具有研磨區(qū)域及用于插設(shè)透光區(qū)域的開口部A的研磨層與具有比透光區(qū)域小的開口部B的緩沖層層疊，使得開口部A和開口部B重合的工序；在所述開口部B上并且在所述開口部A內(nèi)設(shè)置透光區(qū)域的工序；以及通過在所述透光區(qū)域的背面與所述開口部B的斷面的接觸部分，涂布不透水性樹脂組合物而將其硬化，來形成將該接觸部分覆蓋的環(huán)狀的不透水性彈性構(gòu)件的工序。
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