[發(fā)明專利]無鉻光刻板無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210003155.1 | 申請(qǐng)日: | 2012-01-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102436135A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魏臻 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 聚燦光電科技(蘇州)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/60 | 分類號(hào): | G03F1/60 |
| 代理公司: | 蘇州廣正知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32234 | 代理人: | 張利強(qiáng) |
| 地址: | 215123 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 無鉻光 刻板 | ||
1.一種無鉻光刻板,它包括石英基板,其特征在于:所述的石英基板的上表面的預(yù)定位置制作有光刻圖形,所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無鉻光刻板,其特征在于:所述的石英基板的下表面的對(duì)應(yīng)位置制作有相同的光刻圖形,所述的光刻圖形的頂部覆蓋有粗化散射表面,其中,位于所述的石英基板的上表面與下表面的光刻圖形的垂直投影相互重合。
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- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





