[發(fā)明專利]多腔室等離子發(fā)生器陽極

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210002496.7
• 申請日: 2012-01-06
• 公開（公告）號: CN102427654A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 于寶成;張志宏;王華彬
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢天和技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34
• 代理公司: 北京馳納智財知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11367
• 代理人: 謝亮;武寄萍

1.多腔室等離子發(fā)生器陽極，其包括壓縮腔，其特征在于，所述多腔室等離子發(fā)生器陽極還包括穩(wěn)燃腔、導(dǎo)流腔和加速腔，所述壓縮腔位于所述多腔室等離子發(fā)生器陽極的后端，并配置成將陰極產(chǎn)生的等離子進行壓縮，所述穩(wěn)燃腔連接于所述壓縮腔，為拋物線形腔體，并配置成滿足所述等離子擴張，所述導(dǎo)流腔連接于所述穩(wěn)燃腔，并配置成傳導(dǎo)電子和構(gòu)成良好的導(dǎo)電通路，所述加速腔連接于所述導(dǎo)流腔，為上開口拋物線和下開口拋物線構(gòu)成的雙拋物線結(jié)構(gòu)，所述上開口拋物線左側(cè)曲線和所述下開口拋物線的左側(cè)曲線共同構(gòu)成所述加速腔的壓縮段，并配置成壓縮所述等離子，提高所述等離子體密度，所述上開口拋物線右側(cè)曲線和所述下開口拋物線的右左側(cè)曲線共同構(gòu)成所述加速腔的加速段，并配置成降低所述等離子從陽極前端噴口噴出的阻力，提高所述等離子噴射速度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述壓縮腔的直徑為20-60mm，長度為20-50mm，厚度為5-20mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述穩(wěn)燃腔的腔體直徑為20-100mm，長度為30-100mm，厚度為5-20mm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述導(dǎo)流腔的直徑為30-100mm，長度為30-100mm，厚度為5-20mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述加速腔的直徑為20-100mm，長度為30-150mm,厚度為5-20mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述多腔室等離子發(fā)生器陽極的后端與所述陰極相連，所述多腔室等離子發(fā)生器陽極與該陰極間間隔0.5-3mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述多腔室等離子發(fā)生器陽極的制備材料為銅-鉻-稀土復(fù)合材料。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子發(fā)生器陽極，其特征在于，所述多腔室等離子發(fā)生器陽極還包括水冷卻系統(tǒng)，該水冷卻系統(tǒng)覆蓋在所述壓縮腔、所述穩(wěn)燃腔、所述導(dǎo)流腔和所述加速腔的外壁上。