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[發明專利]打印設備和調整圖案打印方法有效

專利信息
申請號: 201210002169.1 申請日: 2012-01-05
公開(公告)號: CN102582255A 公開(公告)日: 2012-07-18
發明(設計)人: 西岡真吾;富田晃弘;中島芳紀;內田直樹 申請(專利權)人: 佳能株式會社
主分類號: B41J2/01 分類號: B41J2/01
代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398 代理人: 魏啟學
地址: 日本東京都大*** 國省代碼: 日本;JP
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摘要:
搜索關鍵詞: 打印 設備 調整 圖案 方法
【說明書】:

技術領域

發明涉及諸如打印機等的打印設備和用于該打印設備的調整圖案打印方法。

背景技術

日本特開平10-329381(1998)號公報公開了一種用于調整噴墨打印的點打印位置的處理(以下也將該處理稱為打印位置調整處理或對準(registration)處理)。更具體地,通過基準噴嘴陣列來打印“基準圖案”,之后,在基準圖案上打印多個“偏移圖案”,其中,偏移圖案是通過打印位置相對于基準圖案每次少許偏移的不同噴嘴陣列而打印的。然后,基于偏移圖案的打印位置所偏移的量和光學反射率的拐點的位置,計算墨滴著落位置誤差的量,并且校正打印頭噴墨的噴出定時。

然而,在上述公報所公開的技術中存在的問題是:對于對準處理,需要相對大量的介質或墨,并且處理時間長。還存在對更精確的對準處理的要求。

發明內容

本發明的目的是提供一種能夠在執行對準處理時降低介質和墨的使用量、縮短處理時間并且提高調整精度的打印設備和用于該打印設備的調整圖案打印方法。

本發明提供一種打印設備,用于通過使頭單元相對于打印介質進行移動來打印圖像,其中,所述頭單元具有用于在共同區域中進行打印的第一打印頭和第二打印頭,所述第一打印頭具有由用于打印點的多個打印元件所構成的第一打印元件陣列,所述第二打印頭具有沿著所述第一打印元件陣列進行排列的并且由用于打印點的多個打印元件所構成的第二打印元件陣列,所述打印設備包括:

圖案打印單元,用于使所述第一打印元件陣列的部分區域中的多個打印元件以及所述第二打印元件陣列的與所述第一打印元件陣列的所述部分區域相對應的部分區域中的多個打印元件在打印介質上打印多個調整圖案,其中,所述多個調整圖案用于獲取所述第二打印頭的打印位置相對于所述第一打印頭的打印位置的偏移量;

獲取單元,用于獲取所述第一打印元件陣列和所述第二打印元件陣列之間的相對傾斜量;以及

選擇單元,用于基于所述第一打印元件陣列和所述第二打印元件陣列之間的相對傾斜量,選擇所述第一打印元件陣列和所述第二打印元件陣列各自的所述部分區域的位置。

本發明提供了另一種打印設備,用于通過使頭單元相對于打印介質進行移動來打印圖像,其中,所述頭單元具有用于在共同區域中進行打印的第一打印頭、第二打印頭和第三打印頭,所述第一打印頭具有由用于打印點的多個打印元件所構成的第一打印元件陣列,所述第二打印頭具有沿著所述第一打印元件陣列進行排列的并且由用于打印點的多個打印元件所構成的第二打印元件陣列,所述第三打印頭具有沿著所述第二打印元件陣列進行排列的并且由用于打印點的多個打印元件所構成的第三打印元件陣列,所述打印設備包括:

圖案打印單元,用于使所述第一打印元件陣列的第一部分區域中的多個打印元件以及所述第二打印元件陣列的與所述第一打印元件陣列的第一部分區域相對應的第一部分區域中的多個打印元件在打印介質上打印多個第一調整圖案,并且使所述第一打印元件陣列的第二部分區域中的多個打印元件以及所述第三打印元件陣列的與所述第一打印元件陣列的第二部分區域相對應的第二部分區域中的多個打印元件在打印介質上打印多個第二調整圖案,其中,所述多個第一調整圖案用于獲取所述第二打印頭的打印位置相對于所述第一打印頭的打印位置的偏移量,所述多個第二調整圖案用于獲取所述第三打印頭的打印位置相對于所述第一打印頭的打印位置的偏移量;

獲取單元,用于獲取所述第一打印元件陣列與所述第二打印元件陣列之間的相對傾斜量以及所述第一打印元件陣列與所述第三打印元件陣列之間的相對傾斜量;以及

選擇單元,用于:

在所述第一打印元件陣列與所述第二打印元件陣列之間的相對傾斜量等于或小于所述第一打印元件陣列與所述第三打印元件陣列之間的相對傾斜量的情況下,選擇所述第一打印元件陣列和所述第二打印元件陣列各自的一個端部區域或另一端部區域作為第一部分區域,并且選擇所述第一打印元件陣列和所述第三打印元件陣列各自的中央區域作為第二部分區域,以及

在所述第一打印元件陣列與所述第二打印元件陣列之間的相對傾斜量大于所述第一打印元件陣列與所述第三打印元件陣列之間的相對傾斜量的情況下,選擇所述第一打印元件陣列和所述第二打印元件陣列各自的中央區域作為第一部分區域,并且選擇所述第一打印元件陣列和所述第三打印元件陣列各自的一個端部區域或另一端部區域作為第二部分區域。

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