[發(fā)明專利]醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210002123.X | 申請日： | 2012-01-05 |
| 公開（公告）號： | CN102560595A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 魏大慶;成夙;周玉 | 申請（專利權(quán)）人： | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | C25D11/26 | 分類號： | C25D11/26;A61L27/32;A61L27/06 |
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| 地址： | 150000 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 醫(yī)用 金屬表面 制備 羥基 磷灰石 多孔 氧化 復(fù)合 涂層 方法 | ||
1.醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述方法包括如下步驟：
一、微弧氧化：將純鈦或鈦合金置于含有堿性電解液的不銹鋼槽體中，采用雙極脈沖電源，通過對微弧氧化電參數(shù)和微弧氧化時(shí)間的控制，靠鈦表面的擊穿放電使鈦表面形成一層多孔二氧化鈦涂層，所述微弧氧化的脈沖電壓為200～500V、頻率為400～800Hz、占空比為4～20%，溶液溫度為0～50℃，氧化時(shí)間為5～30min；
二、水熱處理：采用水熱法將微弧氧化后的多孔二氧化鈦涂層置入裝有處理液的反應(yīng)釜中，通過控制反應(yīng)釜處理液種類、外部溫度和處理時(shí)間，使多孔二氧化鈦涂層表面形貌發(fā)生改變，在多孔二氧化鈦涂層表面原位生長出羥基磷灰石，所述反應(yīng)釜外部溫度為150～250℃，處理時(shí)間為12～48h，處理液為去離子水或氫氧化鈉溶液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述純鈦或鈦合金的基體形狀為任意形狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述堿性電解液為磷酸鹽和乙酸鈣的混合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述堿性電解液為EDTA-2Na、NaOH、Ca(H2PO4)2·H2O和Ca(CH3COO)2·H2O以去離子水為溶劑配制的電解液，其濃度分別為15克/升、15克/升、6.3克/升和13.2克/升。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述多孔二氧化鈦涂層的孔徑尺寸為微米級。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述多孔二氧化鈦涂層的厚度為3～20微米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述反應(yīng)釜應(yīng)為密閉反應(yīng)釜。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述處理液為0.001mol/LNaOH。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的醫(yī)用鈦金屬表面制備羥基磷灰石及多孔二氧化鈦復(fù)合涂層的方法，其特征在于所述處理液為0.01mol/LNaOH。
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