[其他]可轉換的氣體團簇和原子離子槍

有效

• 申請號: 201190000794.1
• 申請日: 2011-10-10
• 公開（公告）號: CN203466162U
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發明（設計）人: B.巴納德
• 申請（專利權）人: VG系統有限公司
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 臧永杰;盧江

1.一種可轉換的離子槍，包括：

????一個氣體膨脹噴嘴，該氣體膨脹噴嘴用于在氣體原子的存在下通過一種氣體穿過該噴嘴的膨脹來產生氣體團簇；

????一個電離室，該電離室用于電離這些氣體團簇和氣體原子；

????一個可變質量選擇器，該可變質量選擇器用于質量選擇這些電離氣體團簇和電離氣體原子，以便產生在基本上包括電離氣體團簇與基本上包括電離氣體原子之間可變的離子束。

2.如權利要求1所述的可轉換的離子槍，其中該氣體膨脹噴嘴包括一個微制造的金屬膨脹噴嘴。

3.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中該氣體膨脹噴嘴包括直徑不大于100微米的一個孔口。

4.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中該可變質量選擇器包括一個磁性可變質量選擇器和用于調整在該磁性可變質量選擇器內的這些離子的能量的一個電浮式離子光學裝置。

5.如權利要求4所述的可轉換的離子槍，其中該電浮式離子光學裝置包括一個電浮式飛行管。

6.如權利要求4所述的可轉換的離子槍，其中該電浮式離子光學裝置是至少部分地定位于該磁性可變質量選擇器內。

7.如權利要求4所述的可轉換的離子槍，其中在該團簇模式中，將一個電壓施加至該浮式離子光學裝置以便當這些離子穿過該磁性扇區時阻礙這些離子，和/或在原子模式中，將一個電壓施加至該浮式離子光學裝置以便當這些離子穿過該磁性扇區時加速這些離子。

8.如權利要求4所述的可轉換的離子槍，其中該可變質量選擇器包括一個磁性可變質量選擇器，該磁性可變質量選擇器在使用中產生小于0.2特斯拉的一個磁場強度。

9.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中這些離子是在6?keV或更少的源能量下在該電離室中形成。

10.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中可以獨立于該可變質量選擇器對這些離子的尺寸的選擇來選擇這些離子的源能量。

11.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中在這些離子進入到該可變質量選擇器中之前，這些離子是由一個引出電極從該電離室中引出并且由一個聚光透鏡聚焦。

12.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中該可變質量選擇器是能夠作為一個高通質量選擇器工作的。

13.如權利要求1或2所述的可轉換的離子槍，其中該可變質量選擇器包括具有一個可編程的電磁體的一個磁性扇區以便改變由該磁性扇區選擇的這些離子的質量范圍。

14.如權利要求13所述的可轉換的離子槍，其中該磁性扇區使這些質量選擇的離子遵循一個彎曲的路徑。

15.如權利要求14所述的可轉換的離子槍，其中該彎曲路徑具有在該磁性扇區的入口與出口之間的在1度與5度之間的一個彎曲。