[發明專利]在含水系統中抑制二氧化硅污垢形成和沉積的方法有效
| 申請號: | 201180068081.3 | 申請日: | 2011-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN103380089B | 公開(公告)日: | 2016-10-26 |
| 發明(設計)人: | N.T.格林;J.S.吉爾;M.R.戈弗雷;C.威廉姆斯 | 申請(專利權)人: | 納爾科公司 |
| 主分類號: | C02F5/10 | 分類號: | C02F5/10;C02F5/00;C02F1/42;C02F101/10 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 賈靜環 |
| 地址: | 美國伊*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含水 系統 抑制 二氧化硅 污垢 形成 沉積 方法 | ||
1.一種在水系統中抑制二氧化硅和硅酸鹽化合物的形成和沉積的方法,該方法包括在水系統的水中加入有效抑制量的一種或多種低分子量陰離子聚合物,該聚合物選自包括以下物質的組:丙烯酸均聚物;甲基丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物;甲基丙烯酸均聚物;丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物;丙烯酸和1-烯丙氧基-2-羥基丙烷磺酸的共聚物;馬來酸酐均聚物;馬來酸酐和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物;及它們的組合。
2.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物具有約5,000Da至約200,000Da的重均分子量。
3.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物為丙烯酸均聚物,其具有約5,000至約200,000Da的平均分子量。
4.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物為甲基丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物,其具有約5,000至約7,000Da的平均分子量。
5.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物為甲基丙烯酸均聚物,其具有約15,000Da的平均分子量。
6.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物為丙烯酸和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物,其具有約5,000至約7,000Da的平均分子量。
7.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物為丙烯酸和1-烯丙氧基-2-羥基丙烷磺酸的共聚物,其具有約32,000Da的平均分子量。
8.權利要求1的方法,其中所述的一種或多種低分子量陰離子聚合物包括利用羧基化和烷氧基化單體的水溶性均聚物和共聚物。
9.權利要求8的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物包括丙氧基、乙氧基、羥基取代的烷基鏈及它們的組合。
10.權利要求9的方法,其中所述的一種或多種低分子量聚合物包括范圍為約4~約20摩爾%的平均取代。
11.權利要求1的方法,其中所述的水系統選自冷卻水系統、地熱水系統、鹽水脫鹽系統、鍋爐水系統、用于原油回收的井下水系統、紙漿和造紙廠水系統、采礦和礦物加工水系統。
12.權利要求1的方法,其中所述的水系統為冷卻水系統。
13.權利要求1的方法,還包括向所述的水系統中加入一種或多種腐蝕抑制劑、阻垢劑或分散劑。
14.權利要求13的方法,其中所述的阻垢劑或分散劑選自包括以下物質的組:無機和有機多磷酸鹽(酯)、膦酸鹽(酯)、聚羧酸酯及它們的組合。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于納爾科公司,未經納爾科公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201180068081.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種聚氨酯定型材料灌裝機
- 下一篇:掛面紙包裝機





