[發明專利]離聚物及其制備方法和用途有效
| 申請號: | 201180066411.5 | 申請日: | 2011-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN103339156A | 公開(公告)日: | 2013-10-02 |
| 發明(設計)人: | 杰弗里·W·科茨;凱文·努南 | 申請(專利權)人: | 康奈爾大學 |
| 主分類號: | C08F30/02 | 分類號: | C08F30/02;C08G79/02;H01M4/86;H01M8/02;H01M8/10 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁業平;金小芳 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離聚物 及其 制備 方法 用途 | ||
1.一種聚合物,其含有多個由下式表示的含磷腈鎓的重復單元(PRU):
其中R1a、R1b、R1c、R1d(統稱為R1)以及R2b、R2c和R2d(統稱為R2)獨立地選自H、(C1-C15)烷基、(C5-C10)環烷基以及與二價(C1-C20)烴殘基連接的位點;或者
任意成對的R1、R2一起形成5或6元環;
W為直鍵或(C1-C10)烴基;
Y為直鍵或(C1-C10)烴基;
Z1為直鍵或(C1-C10)烴基;
波浪線指示所述聚合物中相鄰重復單元的連接點;以及
X為任意平衡離子。
2.一種聚合物,其含有含磷腈鎓的重復單元(PRU)以及任選地隨機或依序排布的烴重復單元(HRU),所述聚合物具有以下結構:
其中n為0.05至1.0,并且表示所述聚合物中PRU的摩爾分數,并且其中所述磷腈鎓基團具有下式:
其中R1a、R1b、R1c、R1d(統稱為R1)以及R2a、R2b、R2c和R2d(統稱為R2)獨立地選自H、(C1-C15)烷基、(C5-C10)環烷基以及與二價烴殘基連接的位點;或者,任意成對的R1、R2一起形成5或6元環,并且其中R2中的至少一個為與二價(C1-C20)烴殘基連接的位點;以及
X為任意平衡離子。
3.根據權利要求1所述的聚合物,其中W為直鍵或(C1-C10)亞烷基;Y為直鍵或(C1-C10)亞烷基;并且Z1選自直鍵、(C1-C10)亞烷基和亞苯基。
4.根據權利要求1、2或3所述的聚合物,其中所有R1為甲基,并且所有R2選自(C1-C10)烷基、(C5-C10)環烷基以及與二價烴殘基連接的位點。
5.根據權利要求4所述的聚合物,其中1至3個R2為與二價烴殘基連接的位點,并且其余的R2選自環戊基、環己基和叔丁基。
6.根據權利要求5所述的聚合物,其中R2中的一個或兩個為與二價烴殘基連接的位點,并且其余的為環己基。
7.根據權利要求1、2或3所述的聚合物,其中所述二價烴殘基具有下式:
其中:
W為直鍵或(C1-C10)烴基;
Y為直鍵或(C1-C10)烴基;
Z1為直鍵或(C1-C10)烴基;
@為與磷腈鎓的氮連接的位點;并且
波浪線指示與所述離聚物中的相鄰重復單元連接的位點。
8.根據權利要求1、3或7所述的聚合物,其中Z1為直鍵。
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