[發(fā)明專利]在光學(xué)制品上制備抗靜電UV可固化硬涂層的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180064096.2 | 申請日: | 2011-01-04 |
| 公開(公告)號: | CN103298893A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | R·瓦勒里 | 申請(專利權(quán))人: | 埃西勒國際通用光學(xué)公司 |
| 主分類號: | C09D5/24 | 分類號: | C09D5/24;C09D4/00;C09D183/06;G02B1/10 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 彭立兵;林柏楠 |
| 地址: | 法國沙*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 制品 制備 抗靜電 uv 固化 涂層 方法 | ||
1.一種在光學(xué)制品上制備抗靜電UV固化硬涂層的方法,其包含:(a)使用基本無水的溶液涂覆有機或無機光學(xué)基材,所述溶液包含相對于溶液的總干物質(zhì)20重量%-90重量%的至少一種未水解的環(huán)氧烷基三烷氧基硅烷和相對于溶液的總干物質(zhì)至少3.2重量%的選自三芳基锍鹽或二芳基碘鹽或其混合物的光引發(fā)劑,
(b)通過使用UV射線輻照固化得到的涂層,
所述方法不包含在UV固化步驟前的任何水解步驟。
2.權(quán)利要求1所述的方法,其中光引發(fā)劑是選自六氟銻酸三芳基锍、六氟磷酸三芳基锍或其混合物的三芳基锍鹽。
3.權(quán)利要求1或2所述的方法,其中環(huán)氧烷基三烷氧基硅烷選自縮水甘油基(C1-3烷基)-三(C1-3烷氧基)硅烷,優(yōu)選3-環(huán)氧丙氧丙基三甲氧基硅烷。
4.權(quán)利要求1-3任一項所述的方法,其中基本無水的溶液還包含至多40重量%多官能單體,其選自多官能丙烯酸酯單體、多官能環(huán)氧單體和它們的混合物。
5.權(quán)利要求4所述的方法,還包含相對于多官能丙烯酸酯單體1重量%-5重量%、優(yōu)選1.5重量%-4.5重量%的自由基光引發(fā)劑。
6.權(quán)利要求4或5所述的方法,其中多官能丙烯酸酯單體選自二丙烯酸酯、三丙烯酸酯和四丙烯酸酯單體。
7.權(quán)利要求1-6任一項所述的方法,其中基本無水的溶液還包含至多30重量%的至少一種有機溶劑。
8.權(quán)利要求1-7任一項所述的方法,其中基本無水的溶液還包含至多40重量%的至少一種二烷氧基硅烷,其選自二(C1-3烷基)-二(烷氧基)硅烷、二(縮水甘油基C1-3)-二(烷氧基)硅烷、和(C1-3烷基)(縮水甘油基C1-3烷基)-二(烷氧基)硅烷。
9.權(quán)利要求8所述的方法,還包含在固化前干燥涂層的步驟。
10.權(quán)利要求1-9任一項所述的方法,其中基本無水的溶液包含從3.5重量%到15重量%、優(yōu)選從4.0重量%-15重量%的至少一種選自三芳基锍鹽的光引發(fā)劑。
11.權(quán)利要求1-10任一項所述的方法,其中基本無水的溶液還包含相對于溶液的總干物質(zhì)至多50重量%的膠體二氧化硅顆粒。
12.權(quán)利要求1-11任一項所述的方法,其中基本無水的溶液不含水解的環(huán)氧烷基烷氧基硅烷和水解的烷基烷氧基硅烷。
13.權(quán)利要求1-12任一項所述的方法,其中基本無水的溶液還包含從0.05-1重量%的表面活性劑,優(yōu)選碳氟改性的聚硅氧烷。
14.權(quán)利要求1-13任一項所述的方法,其中基材是選自熱塑性聚碳酸酯和烯丙基二甘油基碳酸酯聚合物的有機基材。
15.權(quán)利要求1-14任一項所述的方法,其中固化步驟(b)包含使用在UV-C范圍內(nèi)從0.150J/cm2到1.20J/cm2的劑量的UV輻射輻照所述涂覆層約1-10秒。
16.一種基本無水的溶液,其包含相對于溶液的總干物質(zhì)20重量%-90重量%的至少一種未水解的環(huán)氧烷基三烷氧基硅烷和相對于溶液的總干物質(zhì)至少3.2重量%、優(yōu)選從4.0重量%到15重量%的至少一種光引發(fā)劑,所述光引發(fā)劑選自三芳基锍鹽、二芳基碘鹽和其混合物。
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