[發(fā)明專利]可寫入磁性元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180062906.0 | 申請日: | 2011-10-11 |
| 公開(公告)號: | CN103380462B | 公開(公告)日: | 2017-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吉勒斯·路易斯·伽丁;約安·米哈依·米隆;彼得羅·加姆巴德拉;阿蘭·舒爾 | 申請(專利權(quán))人: | 國家科學(xué)研究中心;原子能與替代能源委員會;約瑟夫·傅立葉大學(xué);卡塔拉納米技術(shù)研究所(ICN);加泰羅尼亞調(diào)研高等研究學(xué)院(ICREA) |
| 主分類號: | G11C11/14 | 分類號: | G11C11/14;G11C11/16;H01L27/22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 寫入 磁性 元件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明提供了一種電流引發(fā)的反轉(zhuǎn)型可寫入磁性元件。
背景技術(shù)
通常通過施加磁場使層或小型磁性元件的磁化反轉(zhuǎn)。例如,磁場方向發(fā)生變化取決于是否需要將磁化轉(zhuǎn)向一個方向或轉(zhuǎn)向另一方向。在磁道或計(jì)算機(jī)硬盤上的寫入基于這樣的原則:用于反轉(zhuǎn)的元件被機(jī)械地置于磁場發(fā)生器的附近,以將磁場限制在三維空間的局部范圍。這正是磁場的結(jié)構(gòu),其不能通過定義限制在三維空間的局部范圍,這引發(fā)了將磁場集成在裝置中的許多困難。因此,例如,當(dāng)用被稱為磁性隨機(jī)存取內(nèi)存(MRAM)的固態(tài)磁存儲器或邏輯器件,不可能產(chǎn)生機(jī)械操作或不需要機(jī)械操作時,為了使其僅作用在目標(biāo)單元而不影響其鄰位,需要充分地將磁場集中。當(dāng)各種存儲器或邏輯單元為了增加其密度彼此非常靠近時,該問題變得越來越嚴(yán)重。
最初在1996年,從理論上證明了通過自旋極化電流來操縱磁化的可能,提供了該問題的第一個解決方案。為了在存儲器點(diǎn)操縱磁化的目的,被稱為自旋轉(zhuǎn)移矩(STT)的物理原理需要存在由非磁性金屬(自旋閥式結(jié)構(gòu))或絕緣體(磁性隧道結(jié)型結(jié)構(gòu))隔開的至少兩個磁性層,這兩個層的磁化是非共線的。根據(jù)自旋閥型結(jié)構(gòu)或磁性隧道結(jié)型結(jié)構(gòu)來分別進(jìn)行詳細(xì)物理解釋,但大致上在通過第一磁性層后的電流成為自旋極化的電流,然后,通過電流極化的非共線分量來對第二層的磁化施加力矩。當(dāng)電流密度足夠高時,既可以在自旋閥中又可以在磁性隧道結(jié)中使第二磁層的磁化反轉(zhuǎn)。
例如,在2006年3月7日公布的第7009877號美國專利和2009年5月21日公布的第2009/129143號美國專利申請所述,電流必須垂直于層的平面通過結(jié)。
通過電流局部操縱亞微米尺寸的磁性元件的磁化的能力,立即顯示了針對應(yīng)用的可能性。目前,行業(yè)參與者正在尋求將該原則并入到MRAM存儲單元和邏輯組件新的架構(gòu)。
目前,這樣的合作正面臨相互關(guān)聯(lián)的各種困難。
STT反轉(zhuǎn)需要在存儲點(diǎn)存在由非磁性間隔件分隔的至少兩個磁性層。如上所述,通過垂直于磁性層的平面注入高密度的電流通過整個層疊體來實(shí)現(xiàn)寫入,而通過層疊體的磁阻(用于自旋閥的巨磁阻(GMR),以及用于磁性隧道結(jié)的隧道磁阻(TMR))來實(shí)現(xiàn)讀取。目前,所有或幾乎所有的應(yīng)用都基于使用磁性隧道結(jié)。因此,雖然GMR信號僅占百分之幾,基于MgO結(jié)的TMR信號通常大于100%。然而,隧道結(jié)具有電阻與面積(RA)的乘積呈現(xiàn)較大值的缺點(diǎn)。因此,對于STT反轉(zhuǎn)所需要的典型的電流密度為每平方厘米107amps(A/cm2),RA為100歐姆-平方微米(Ω·μm2),結(jié)的邊緣處電壓為10伏(V);RA為10Ω·μm2,結(jié)的邊緣處電壓為1V;RA為1Ω·μm2,結(jié)的邊緣處電壓為0.1V。除了最小的值,在結(jié)處功耗大,其在能源消耗方面不利,且破壞了所述結(jié)。此外,有利于讀取的高的TMR值通常通過呈現(xiàn)高RA值的層疊體來獲得。這就是目前的研究正在尋求獲得TMR呈現(xiàn)高值且RA呈現(xiàn)低值的隧道結(jié)的原因。此外,即使結(jié)的邊緣處的電壓相對低值,由于電壓循環(huán),在操作中已經(jīng)觀察到,結(jié)的加速老化現(xiàn)象。目前,無論是為了在現(xiàn)有的配置中優(yōu)化材料,還是用于定義新的配置,許多研究致力于這點(diǎn),例如,通過使用具有三個端子的配置,可以盡可能多的解決分離寫入和讀取的問題。
總之,由于在已知的STT裝置中,這兩種現(xiàn)象是內(nèi)在聯(lián)系的,因此困難在于不能獨(dú)立優(yōu)化讀取和寫入。
然而,另一該聯(lián)系的固有的困難來自層疊體的越來越大的復(fù)雜性。因此,為了存儲磁化,如果需要僅在待反轉(zhuǎn)的層中產(chǎn)生STT效果,必須例如,穩(wěn)定其它層,例如,通過與反鐵磁性材料交互耦合:如果需要增加STT轉(zhuǎn)移的振幅,必須優(yōu)化極化層;如果需要減少敏感層上輻射的磁場,必須例如,使用人工反鐵磁雙層;等等。
因此,MRAM單元或邏輯組件的典型磁性層疊體可以具有各種材料的超過10個或15個不同的層。因此,其在構(gòu)造步驟過程中帶來了困難,尤其是在蝕刻工序中,其是用于集成這樣的磁性層疊體主要的阻礙之處之一。
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