[發(fā)明專利]漿料相設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201180059937.0
• 申請(qǐng)日: 2011-12-12
• 公開（公告）號(hào): CN103354764A
• 公開（公告）日: 2013-10-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安德烈·彼得·斯泰恩伯格;埃弗特·菲利普斯·克萊因漢斯;馬歇爾·斯蒂芬·李;埃爾馬努斯·赫哈德斯·內(nèi)爾;亞科·勞(已逝)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 沙索技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): B01J8/22
• 分類號(hào): B01J8/22;B01J8/18;C10G2/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 田軍鋒;魏金霞

本發(fā)明涉及一種漿料相設(shè)備。具體地，本發(fā)明涉及一種操作漿料相設(shè)備的方法并且涉及一種漿料相設(shè)備。

在化學(xué)加工工業(yè)中通常使用三相反應(yīng)器或漿態(tài)鼓泡塔反應(yīng)器。通常，它們用于反應(yīng)物為氣態(tài)、產(chǎn)物包括液體且需要固體催化劑的反應(yīng)。這些反應(yīng)通常是放熱的。因此，在這樣的反應(yīng)中，將氣體注入到包括懸浮在液體中的顆粒催化劑固體的漿料中。通常，使用氣體分配器或分布器將氣體注入到漿料中。在正常操作條件下，漿料處于持續(xù)攪動(dòng)的狀態(tài)下。

WO2005/084790公開了一種用于漿料反應(yīng)器的氣體分配器，氣體出口盡可能靠近反應(yīng)器的底板，并且適用于噴射氣體掃過反應(yīng)器的底板以沖走催化劑，從而加強(qiáng)反應(yīng)器內(nèi)的催化劑分布。WO2005/084790指出：在氣體分配器下面的體積部不受冷卻裝置控制，以及有利地，從底板沖走催化劑使催化劑僅在氣體分配器正上方的主要存在冷卻盤管的區(qū)域中循環(huán)。從WO2005/08470的圖1顯而易見的是：氣體出口依循反應(yīng)器底封頭的曲率。

WO2005/094979公開了一種氣體分配器，其具有向下開口的氣體噴嘴以在操作過程中產(chǎn)生到達(dá)漿料中的向下的射流。這些射流沖洗反應(yīng)器的底面以防止催化劑停留在底面上。WO2005/094979教示了：噴嘴的一定分布密度以及噴嘴與反應(yīng)器底面之間的最佳距離一方面確保了催化劑懸浮并且另一方面防止了腐蝕。WO2005/094979的圖2示出了：反應(yīng)器的底面如何彎曲以及氣體分配器環(huán)如何放置以確保環(huán)與反應(yīng)器的底面之間的恒定間隔。這是通過使用不同的管件長度將環(huán)與多支管進(jìn)行連接而實(shí)現(xiàn)的。WO2005/094979指出：在具有相等管件長度的平坦的氣體分配器即布置在水平面內(nèi)的分配器的情況下，噴嘴與反應(yīng)器的底面之間的距離將變化，這會(huì)導(dǎo)致反應(yīng)器的一部分中的腐蝕問題，同時(shí)導(dǎo)致催化劑堆積在另一部分中。

WO2005/094979和WO2005/084790中使用的設(shè)計(jì)均導(dǎo)致大量未冷卻反應(yīng)體積部，這是因?yàn)闅怏w分配器填充反應(yīng)器的底封頭。另外，反應(yīng)器的底封頭形成反應(yīng)器壓力包絡(luò)體的一部分，并且受到來自于氣體分配器出口的氣體射流的沖擊。

GB2410906也處理漿料相設(shè)備中的氣體分配，并且公開了一種漿料相設(shè)備，其具有位于分布器下方的流體能滲透的帶孔支撐物。所述帶孔支撐物保留質(zhì)量百分比為90%的顆粒。流體入口設(shè)置在帶孔支撐物下方用以進(jìn)行驟冷。

WO2007/086612公開了一種屏障構(gòu)件，該屏障構(gòu)件設(shè)置在從漿料反應(yīng)器中的氣體分配器向下噴射的氣體的方向的前方。屏障構(gòu)件的公開示例包括濾網(wǎng)、具有過濾器的板、和固體板。WO2007/086612的鼓泡塔反應(yīng)器的一些實(shí)施方式使屏障構(gòu)件在氣體分配器與位于反應(yīng)器底部的液體出口之間，然后屏障構(gòu)件開孔口以保留催化劑顆粒。

預(yù)料到，如GB2410906和WO2007/086612中教示的具有帶孔分隔物的設(shè)計(jì)將導(dǎo)致至少一些催化劑材料進(jìn)入到帶孔分隔物下方，從而可能停留或存納于帶孔分隔物中（記住，因持續(xù)攪動(dòng)，催化劑磨損發(fā)生在漿料反應(yīng)器操作過程中）。在試劑給送器的臨近區(qū)域中以高試劑濃度或者局部壓力停留或存納于該未冷卻體積部中的催化劑將很可能導(dǎo)致操作問題，例如對(duì)裝備和催化劑產(chǎn)生損害的局部熱點(diǎn)。

在實(shí)施流體不能滲透的分隔物時(shí)，至少在某種程度上避免或者減輕上述困難。然而，應(yīng)當(dāng)理解，流體不能滲透的屏障構(gòu)件或分隔物本身可能引起構(gòu)造和維護(hù)上的問題。在這一點(diǎn)上，應(yīng)當(dāng)注意，用于費(fèi)-托烴合成（Fischer-Tropsch?hydrocarbon?synthesis）的漿態(tài)鼓泡塔可以在超過30bar(g)下操作。