[發明專利]表面檢查裝置及其方法有效
| 申請號: | 201180059328.5 | 申請日: | 2011-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN103250232A | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發明(設計)人: | 深澤和彥;藤森義彥;武田信介 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027;G01B11/00;G01N21/94;G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默聞 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 表面 檢查 裝置 及其 方法 | ||
1.一種表面檢查裝置,具有:
照明部,以照明光照明具有經既定加工條件加工的圖案的基板的表面既定區域;
檢測部,檢測與從位在該既定區域內的圖案往第1方向行進的第1光對應的第1檢測信號、以及與往該第1方向不同的第2方向行進的第2光對應的第2檢測信號:
準備部,對具有以復數個已知加工條件加工的復數個圖案的至少一個,準備顯示以該檢測部檢測的第1檢測信號與該已知復數個加工條件的關系的第1基準數據、以及顯示以該檢測部檢測的第2檢測信號與該已知復數個加工條件的關系的第2基準數據;以及
判定部,對待求出加工條件的基板,根據以該檢測部檢測的第1檢測信號與該第1基準數據的一致度、以及對該基板以該檢測部檢測的第2檢測信號與該第2基準數據的一致度,判定該基板上的圖案的加工條件。
2.如權利要求1所述的表面檢查裝置,其中,該圖案通過各該既定區域的曝光所設的圖案,以該判定部求出的該加工條件是該曝光時的聚焦狀態與曝光量中的至少一方;
相對于該加工條件變化的該第1檢測信號的變化與相對于該加工條件變化的該第2檢測信號的變化是相反的。
3.如權利要求2所述的表面檢查裝置,其中,以該判定部判定的該加工條件為該聚焦狀態,相對于該聚焦狀態變化的該第1檢測信號及第2檢測信號的變化,較相對于該曝光量變化的變化大。
4.如權利要求1至3中任一項所述的表面檢查裝置,其中,該準備部儲存該第1基準數據與該第2基準數據的記憶部。
5.如權利要求1至4中任一項所述的表面檢查裝置,其中,該第1檢測信號與該第2檢測信號中的至少一方依據繞射光。
6.如權利要求5所述的表面檢查裝置,其中,該第1方向與該第2方向于位在該既定區域內的圖案產生的不同次數的繞射光的行進方向。
7.如權利要求1至4中任一項所述的表面檢查裝置,其中,該第1檢測信號與該第2檢測信號中的至少一方依據既定的偏光成分。
8.如權利要求1至7中任一項所述的表面檢查裝置,其中,該檢測部檢測往與該第1方向、該第2方向皆不同的第3方向行進的第3光對應的第3檢測信號;
于該準備部進一步儲存有針對具有該復數個圖案的基板,顯示以該檢測部檢測的第3檢測信號與該已知的復數個加工條件的關系的第3基準數據;
該判定部根據對該被檢基板以該檢測部檢測的第1檢測信號與該第1基準數據的一致度、對該被檢基板以該檢測部檢測的第2檢測信號與該第2基準數據的一致度、以及對該被檢基板以該檢測部檢測的第3檢測信號與該第3基準數據的一致度,判定該被檢基板上的圖案的加工條件。
9.如權利要求1至8中任一項所述的表面檢查裝置,其進一步具備支承該基板的載臺,該載臺能以與該基板的該被支承的面略平行且與該照明光的行進方向略正交的軸為中心旋動。
10.如權利要求1至8中任一項所述的表面檢查裝置,其中,該檢測部具備插拔自如的設在照明該基板的照明光的光路、使該照明光中的s偏光成分透射的方式構成的照明側偏光濾光器,或插拔自如的設在第1或第2光路、使該第1、第2光中的s偏光成分透射的方式構成的受光側偏光濾光器。
11.一種曝光系統,具備于基板表面曝光出既定圖案的曝光裝置、與對被該曝光裝置曝光而于表面設有該圖案的基板進行表面檢查的表面檢查裝置;
該表面檢查裝置是權利要求1至10中任一項的表面檢查裝置,作為以該判定部求出的該加工條件將該曝光時的聚焦狀態輸出至該曝光裝置;
該曝光裝置根據從該表面檢查裝置輸入的該曝光時的聚焦狀態,修正該曝光裝置的聚焦設定。
12.如權利要求11所述的曝光系統,其為對該基板通過液體曝光出該既定圖案的液浸型曝光裝置。
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