[發明專利]微圖案形成方法和使用其的微通道晶體管和微通道發光晶體管的形成方法有效
| 申請號: | 201180059051.6 | 申請日: | 2011-10-06 |
| 公開(公告)號: | CN103261088A | 公開(公告)日: | 2013-08-21 |
| 發明(設計)人: | 閔盛涌;金泰植;李泰雨 | 申請(專利權)人: | 浦項工科大學校產學協力團 |
| 主分類號: | B82B3/00 | 分類號: | B82B3/00;B82B1/00 |
| 代理公司: | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人: | 楊黎峰;李欣 |
| 地址: | 韓國慶*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖案 形成 方法 使用 通道 晶體管 發光 | ||
1.一種形成微圖案的方法,所述方法包括:
在襯底上形成具有圓形截面或橢圓形截面的有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案;
在形成有所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案的所述襯底的整個表面上形成材料層;和
從所述襯底上除去所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案,以僅保留所述襯底的未形成有所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案的部分上的所述材料層。
2.根據權利要求1所述的方法,其中,具有圓形截面或橢圓形截面的所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案通過電場輔助機器人噴嘴印刷、直接尖端拉絲、彎月面導向直接寫入、熔融紡絲、濕法紡絲、干法紡絲、凝膠紡絲、或靜電紡絲來制造。
3.根據權利要求2所述的方法,其中,通過利用電場輔助機器人噴嘴印刷機來執行所述電場輔助機器人噴嘴印刷,所述電場輔助機器人噴嘴印刷機包括:溶液儲存裝置,所述溶液儲存裝置供給待排出的溶液;噴嘴,所述噴嘴排出由所述溶液儲存裝置供給的溶液;電壓施加裝置,所述電壓施加裝置向所述噴嘴施加高電壓;平整的且可移動的收集器,從所述噴嘴排出而形成的有機線或有機-無機混合線對齊在所述收集器上;機器人平臺,所述機器人平臺安裝在所述收集器的下方以使所述收集器沿著x-y方向(水平方向)移動;微距控制器,所述微距控制器控制所述噴嘴和所述收集器之間的在z方向(豎直方向)上的距離;以及底板,所述底板設置在所述機器人平臺的下方以保持所述收集器的平整度并抑制所述機器人平臺運行期間產生的振動。
4.根據權利要求3所述的方法,其中,所述噴嘴和所述收集器之間的距離在10μm至20mm的范圍內。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其中,通過所述電場輔助機器人噴嘴印刷形成所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案的步驟包括:
將有機材料或有機-無機混合材料與蒸餾水或有機溶劑相混合以制備有機溶液;
將所述有機溶液加入所述電場輔助機器人噴嘴印刷機的所述溶液儲存裝置中;
通過所述電場輔助機器人噴嘴印刷機的所述電壓施加裝置向所述噴嘴施加高電壓,同時使所述溶液儲存裝置中的所述有機溶液從所述噴嘴排出;和
使所述收集器移動,同時將由所述噴嘴排出的所述有機溶液形成的有機線或有機-無機混合線在所述收集器上的所述襯底上對齊。
6.根據權利要求5所述的方法,其中,所述有機材料包括有機低分子量半導體、有機聚合物半導體、導電聚合物、絕緣聚合物或其混合物。
7.根據權利要求6所述的方法,其中,所述有機材料包括有機低分子量半導體材料、有機聚合物半導體/導電聚合物材料或有機絕緣聚合物,所述有機低分子量半導體材料選自6,13-雙(三異丙基甲硅烷基乙炔基)并五苯、三乙基甲硅烷基乙炔基雙噻吩蒽TES?ADT和[6,6]-苯基C61丁酸甲酯PCBM;所述有機聚合物半導體/導電聚合物材料選自聚噻吩、聚(3-己基噻吩)P3HT、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)PEDOT、聚(9-乙烯基咔唑)PVK或其衍生物、聚對苯乙烯撐或其衍生物、聚芴或其衍生物、聚(螺-芴)或其衍生物、聚苯胺或其衍生物和聚吡咯或其衍生物;所述有機絕緣聚合物選自聚氧化乙烯PEO、聚苯乙烯PS、聚已酸內酯PCL、聚丙烯腈PAN、聚(甲基丙烯酸甲酯)PMMA、聚酰亞胺、聚(偏二氟乙烯)PVDF和聚氯乙烯PVC。
8.根據權利要求5所述的方法,其中,所述有機-無機混合材料包括具有納米尺寸的粒子、線、帶、桿形狀的半導體、金屬、金屬氧化物、金屬或金屬氧化物的前驅體、碳納米管CNT、還原后的石墨烯氧化物、石墨烯、石墨烯量子點、石墨烯納米帶、石墨、或具有由納米尺寸的化合物半導體粒子形成的核的量子點中的至少一種或多種。
9.根據權利要求1所述的方法,其中,所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案的直徑在10nm至100μm的范圍內。
10.根據權利要求1所述的方法,其中,所述有機線掩模圖案或有機-無機混合線掩模圖案具有任意取向的圖案或對齊的圖案。
11.根據權利要求10所述的方法,其中,在所述有機線或有機-無機混合線的對齊的圖案中的兩個或多個平行線之間的角度公差在0度到10度的范圍中。
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