[發明專利]通過加氫裂化產物的烷基化將費-托凝析物烯烴提質的方法有效
| 申請號: | 201180057055.0 | 申請日: | 2011-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN103228600A | 公開(公告)日: | 2013-07-31 |
| 發明(設計)人: | S·I·霍梅爾托夫特;詹必增 | 申請(專利權)人: | 雪佛龍美國公司 |
| 主分類號: | C07C2/58 | 分類號: | C07C2/58;C07C7/04;C07C9/00;C10G50/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 孫愛 |
| 地址: | 美國加*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 通過 加氫裂化 產物 烷基化 托凝析物 烯烴 方法 | ||
1.烷基化方法,該方法包括:
a)提供包含烯烴的第一費-托衍生烴料流;
b)提供包含蠟的第二費-托衍生烴料流;
c)在加氫裂化區中于加氫裂化條件下使所述第二費-托衍生烴料流與加氫裂化催化劑接觸以提供包含異鏈烷烴的富含餾出物的加氫裂化產物;以及
d)在烷基化區中于烷基化條件下使所述烯烴與所述異鏈烷烴在離子液體催化劑存在下接觸以提供包含大于50vol%?C9-C25餾出物的烷基化物產物。
2.根據權利要求1的方法,其中所述第一費-托衍生烴料流包含含有含氧化合物的費-托凝析物,并且所述方法還包括:
e)在脫水區中于含氧化合物脫水條件下使所述第一費-托衍生烴料流與脫水催化劑接觸以提供富含烯烴的烴料流;并且其中步驟d)包括:
f)將所述富含烯烴的烴料流給進到所述烷基化區中。
3.根據權利要求1的方法,其中所述第一費-托衍生烴料流包含C18-費-托凝析物。
4.根據權利要求1的方法,其中所述第一費-托衍生烴料流包含C8-費-托凝析物。
5.根據權利要求1的方法,其中所述第二費-托衍生烴料流還包含C9+費-托凝析物。
6.根據權利要求1的方法,其中所述第二費-托衍生烴料流基本上由費-托衍生蠟組成。
7.根據權利要求1的方法,其中所述離子液體催化劑包含氯鋁酸鹽離子液體。
8.根據權利要求1的方法,其中所述離子液體催化劑包含N-丁基吡啶鎓七氯二鋁酸鹽離子液體。
9.根據權利要求1的方法,其中對所述烷基化條件進行選擇以抑制烯烴低聚。
10.根據權利要求2的方法,該方法還包括:
g)將富含餾出物的加氫裂化產物給進到蒸餾單元中;
h)從所述蒸餾單元分離出含有石腦油的餾分;以及
i)與步驟f)同時,將所述含有石腦油的餾分給進到所述烷基化區中。
11.根據權利要求10的方法,其中所述含有石腦油的餾分包含C4-C8異鏈烷烴。
12.根據權利要求10的方法,其中所述含石腦油的餾分包含C5-C8異鏈烷烴。
13.根據權利要求10的方法,該方法還包括:
j)提供包含至少一種C3-C4烯烴的第三費-托衍生烴料流;以及
k)與步驟i)同時,將第三費-托衍生烴料流給進到烷基化區中。
14.根據權利要求13的方法,其中所述第三費-托衍生烴料流包含液化石油氣(LPG)。
15.根據權利要求10的方法,該方法還包括:
l)與步驟g)同時,將所述烷基化物產物給進到所述蒸餾單元中。
16.根據權利要求15的方法,該方法還包括:
m)通過所述蒸餾單元提供餾出物產品。
17.根據權利要求10的方法,該方法還包括:
n)將塔底餾分從所述蒸餾單元再循環到所述加氫裂化區。
18.烷基化方法,該方法包括:
a)在烯烴富集區中于烯烴富集條件下處理第一費-托衍生烴料流以提供包含一種或多種烯烴的富含烯烴的烴料流;
b)在加氫裂化區中于加氫裂化條件下使第二費-托衍生烴料流與加氫裂化催化劑接觸以提供富含餾出物的加氫裂化產物;
c)將所述富含餾出物的加氫裂化產物給進到蒸餾單元中;
d)通過所述蒸餾單元分離出含有石腦油的餾分,其中所述含有石腦油的餾分包含一種或多種異鏈烷烴;
e)將所述含有石腦油的餾分給進到烷基化區中;
f)與步驟e)同時,將所述富含烯烴的烴料流給進到所述烷基化區中;
g)在所述烷基化區中于烷基化條件下使所述一種或多種異鏈烷烴與所述一種或多種烯烴接觸以提供烷基化物產物;以及
h)與步驟c)同時,將所述烷基化物產物給進到所述蒸餾單元中。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于雪佛龍美國公司,未經雪佛龍美國公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201180057055.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:抗氧化耐高溫半胱胺鹽酸鹽制劑制備及其應用
- 下一篇:一種粉塵提浸裝置





