[發明專利]粉體分配裝置

有效

• 申請號: 201180053945.4
• 申請日: 2011-10-14
• 公開（公告）號: CN103201202A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: 救護勝
• 申請（專利權）人: 日清制粉集團本社股份有限公司
• 主分類號: B65G53/04
• 分類號: B65G53/04;B65G53/16
• 代理公司: 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100
• 代理人: 胡福恒

技術領域

本發明涉及一種粉體分配裝置，尤其涉及一種利用回旋氣體流分配粉體的分配裝置。

背景技術

目前，在工業、農業、食品業等中，存在將成為處理對象的粉體分配至多處實施處理的情況。進行這種分配處理的裝置，已記載于例如專利文獻1及2中。這些裝置均具有頂點朝向鉛垂下方的圓錐形狀的分配室，且在該分配室內形成回旋氣體流，并且將氣體搬運的粉體從頂點部向上方導入分配室內，藉此從相對于分配室配置成輻射狀的復數個排出口分配粉體。

(專利文獻1)日本特開昭62-25166號公報

(專利文獻2)日本特開2010-145071號公報

發明內容

發明要解決的課題

然而，如專利文獻1及2所記載，當欲采用頂點朝向鉛垂下方的圓錐形狀的分配室分配粉體時，有時粉體會附著于形成分配室的內壁的圓錐面上。尤其是，例如粒徑在1μm以下的次微米粒子等的微粉體，容易附著凝聚在圓錐面上而形成粒徑大的凝聚體。當如此形成的凝聚體從圓錐面剝離并混合于微粉體中時，就變得難以進行期望的分配。另外，由于分配的粉體的粒度分布變動在后續處理中恐怕會有障礙。

本發明為了解除這種以往的問題而開發完成，其目的在于提供一種即便對于微粉體也可以一邊抑制凝聚體的形成一邊進行期望的分配的粉體分配裝置。

解決問題的手段

本發明的粉體分配裝置，具備：圓柱形狀的分配室；及粉體導入管，其沿著分配室的中心軸延伸并從面向分配室的導入口將粉體導入分配室內；及回旋氣體流形成手段，其在分配室內形成繞分配室的中心軸回旋的回旋氣體流；及復數個粉體分配通道，其分別與分配室的外周面連通；以及狹縫，其形成于復數個粉體分配通道和分配室的連通部。

優選地，回旋氣體流形成手段包含：圓筒形狀的壓縮氣體導入室，其形成于粉體導入管的外周部并且與分配室連通；及復數個噴嘴，其沿著壓縮氣體導入室的周圍排列并用以向壓縮器以導入室內噴出壓縮氣體以形成圓周方向的氣體流；以及壓縮氣體供給源，其向復數個噴嘴供給壓縮氣體。

進一步優選地，從分配室的底面至粉體導入管的導入口的高度為分配室的內徑的1/2以上，且為從分配室的底面至復數個噴嘴的高度以下。

另外，優選地，通過回旋氣體流形成手段形成的回旋氣體流具有流通于粉體分配裝置整體的氣體流量的1/2以上的流量。

另外，復數個粉體分配通道，雖然以相對于分配室的中心軸延伸成輻射狀的方式來形成的話，可以使得粉體分配裝置構成更小型，但是也可以按照粉體而形成各式各樣的形狀。

發明效果

根據本發明，由于是在圓柱形狀的分配室內形成回旋氣體流，且從沿著分配室的中心軸延伸的粉體導入管將粉體導入分配室內，并通過狹縫分配至與分配室的外周面連通的復數個粉體分配通道，所以即便對于微粉體也能夠一邊抑制凝聚體的形成一邊進行期望的分配。

附圖說明

圖1為顯示本發明實施形態的粉體分配裝置的構成的正面剖視圖。

圖2為圖1的A-A線剖視圖。

圖3為圖1的B-B線剖視圖。

圖4為顯示在實施形態的粉體分配裝置中變動系數對從1處排出的粉體流量的關系的曲線圖。

圖5為顯示在變化例的粉體分配裝置中變動系數對從1處排出的粉體流量的關系的曲線圖。

圖6為顯示在實施形態的粉體分配裝置中變動系數對粉體導入口的高度位置的關系的曲線圖。

圖7為顯示在實施形態的粉體分配裝置中粉體導入口的高度對分配室的內徑之比與變動系數的關系的曲線圖

圖8為顯示在實施形態的粉體分配器中回旋氣體流量對整體風量之比與變動系數的關系的曲線圖。

圖9為顯示在實施形態的粉體分配器中變動系數對粉體供給流量的關系；其中(A)為狹縫高度2mm時的曲線圖；(B)為狹縫高度4mm時的曲線圖；(C)為狹縫高度8mm時的曲線圖。

附圖標記

1殼體??2粉體導入管??2a粉體導入管的下半部??3分配室??4貫通孔5壓縮氣體導入室??6粉體導入口??7噴嘴??8氣體積留部??9氣體供給口10壓縮氣體供給源??11粉體分配通道??12狹縫??C中心軸??D1分配室的內徑D2貫通孔的內徑??D3粉體導入管2的外徑H從分配室的底面至粉體導入口為止的高度??h狹縫的高度

具體實施方式

以下，根據附圖所示的較佳實施形態，詳細地說明本發明。