[發(fā)明專利]顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180053596.6 | 申請日: | 2011-11-01 |
| 公開(公告)號: | CN103189789A | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 久田祐子;澤田裕宣;森永潤一;淺田勝滋;伊藤了基 | 申請(專利權(quán))人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1343 | 分類號: | G02F1/1343;G02F1/133;G02F1/1368;G09F9/30 |
| 代理公司: | 北京市隆安律師事務(wù)所 11323 | 代理人: | 權(quán)鮮枝 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,
具備多個信號線、多個像素電極以及共用電極,且1個像素包括4色以上的圖像元素,
該多個像素電極各與該多個信號線中的1個連接,
該1個像素所包含的多個像素電極排列為田字狀,且包含具有較大面積的像素電極和具有較小面積的像素電極,
與該具有較大面積的像素電極連接的信號線和與該具有較小面積的像素電極連接的信號線均與該具有較大面積的像素電極重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
上述具有較大面積的像素電極的電位與上述具有較小面積的像素電極的電位在以上述共用電極的電位為基準(zhǔn)時是相互相反極性。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
在上述顯示面板中,多個上述像素構(gòu)成為矩陣狀,
該多個像素中的1個像素所包含的在行方向上相鄰的像素電極各自的電位,在以上述共用電極的電位為基準(zhǔn)時,與位于該1個像素的相鄰位置的像素所包含的相同位置的像素電極的電位是不同的。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
在上述顯示面板中,多個上述像素構(gòu)成為矩陣狀,
該多個像素中的1個像素所包含的像素電極中的任一個像素電極的電位,在以上述共用電極的電位為基準(zhǔn)時,均與位于該1個像素的相鄰位置的像素所包含的相同位置的像素電極的電位是不同的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的顯示面板,其特征在于,
上述多個信號線中的至少一個信號線與上述多個像素電極中的1個重疊的部分的長度比該像素電極的同方向的最長部分的長度短。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的顯示面板,其特征在于,
上述1個像素所包含的多個像素電極的數(shù)量是2n個(n為自然數(shù)),包括具有較大面積的n個像素電極和具有較小面積的n個像素電極,
該具有較大面積的n個像素電極分別排列在相同方向上,
該具有較小面積的n個像素電極排列在與該具有較大面積的n個像素電極不同的方向上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的顯示面板,其特征在于,
上述1個像素所包含的多個像素電極的數(shù)量是2n個(n為自然數(shù)),包括具有較大面積的n個像素電極和具有較小面積的n個像素電極,
該具有較大面積的n個像素電極和該具有較小面積的n個像素電極在行方向和列方向上配置為交錯方塊狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項所述的顯示面板,其特征在于,
在與上述多個像素電極重疊的位置分別設(shè)置有彩色濾光片,
與上述1個像素內(nèi)的上述具有較大面積的像素電極重疊的彩色濾光片的顏色的視覺靈敏度的大小,小于與上述具有較小面積的像素電極重疊的彩色濾光片的顏色的視覺靈敏度的大小。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任一項所述的顯示面板,其特征在于,
在與上述多個像素電極重疊的位置分別設(shè)置有彩色濾光片,
與上述1個像素內(nèi)的上述具有較大面積的像素電極重疊的彩色濾光片的實質(zhì)開口面積和與上述具有較小面積的像素電極重疊的彩色濾光片的實質(zhì)開口面積是大致相同的。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示面板,其特征在于,
與上述1個像素內(nèi)的上述多個像素電極重疊的各彩色濾光片的實質(zhì)開口面積均大致相同。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任一項所述的顯示面板,其特征在于,
上述顯示面板是具備包括有源矩陣基板與相對基板的一對基板和夾持于該一對基板的液晶層的液晶顯示面板。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于夏普株式會社,未經(jīng)夏普株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201180053596.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:使用微透鏡陣列的掃描曝光裝置
- 下一篇:一種PCB板成型加工方法及PCB板
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





