[發明專利]用于流動型顆粒分析儀的雙反饋真空流動技術

有效

• 申請號: 201180052384.6
• 申請日: 2011-10-24
• 公開（公告）號: CN103201611A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發明（設計）人: D·弗蘭;P·O·諾頓
• 申請（專利權）人: 貝克頓·迪金森公司
• 主分類號: G01N15/14
• 分類號: G01N15/14;G01F1/36;G05D7/06
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 王初

1.一種用于流動型顆粒分析儀的流動系統，所述流動系統包括：

a）流動槽，所述流動槽具有

樣本流體進口端口，

包裹流體進口端口，

出口端口，以及

比色皿，其中，所述比色皿包含比色皿通道，該比色皿通道具有輸入端部和輸出端部，其中，所述輸入端部與所述樣本進口端口以及所述包裹流體進口端口流體連通，所述輸出端部與所述出口端口流體連通；

b）樣本流體管線，所述樣本流體管線與所述樣本進口端口流體連通，用來從樣本流體容器提供包含顆粒的樣本流體；

c）包裹流體管線，所述包裹流體管線與所述包裹流體進口端口流體連通，用來從包裹流體儲器提供包裹流體；

d）出口管線，所述出口管線與所述出口端口流體連通；

e）真空泵，所述真空泵具有可控制功率級，與所述出口管線真空連通，并構造成用以在所述出口管線中抽吸真空，由此將所述樣本流體和包裹流體抽過所述流動槽；

f）第一傳感器，所述第一傳感器構造成用以測量從包裹流體進口端口到所述比色皿出口端口的壓降；

g）第一控制反饋回路，所述第一控制反饋回路構造成用以響應由所述第一傳感器測量的壓降而調節所述真空泵的功率；

h）第二傳感器，所述第二傳感器構造成用以測量從所述比色皿出口端口到大氣壓力的壓降；

i）第二控制反饋回路，所述第二控制反饋回路構造成用以響應由所述第二傳感器測量的壓降而調節所述真空泵的功率；

其中，所述樣本流體管線或所述包裹流體管線包括可變阻力流動阻滯器。

2.根據權利要求1所述的流動系統，其中，所述包裹流體管線包括可變阻力流動阻滯器。

3.根據權利要求2所述的流動系統，還包括：

a）第一閥，所述第一閥與所述包裹流體管線共線地定位，構造成用以控制所述包裹流體到所述流動槽中的流動；

b）第二閥，所述第二閥與所述出口管線共線地定位，構造成用以控制所述包裹流體到所述流動槽外的流動；

c）閥控制器，所述閥控制器與所述第一閥和第二閥可操作地連接。

4.根據權利要求2所述的流動系統，其中，所述可變阻力流動阻滯器構造成用以提供多個離散阻力水平。

5.根據權利要求4所述的流動系統，其中，所述可變阻力流動阻滯器包括多條可選擇流體路徑。

6.根據權利要求5所述的流動系統，其中，所述可變阻力流動阻滯器還包括多個閥，所述多個閥構造成用以允許截斷所述可選擇流體路徑。

7.根據權利要求2所述的流動系統，其中，所述可變阻力流動阻滯器構造成用以提供連續可變流動阻力。

8.根據權利要求7所述的流動系統，其中，所述可變阻力流動阻滯器包括導管以及可控制裝置，所述導管包括至少部分地可壓縮或可變形的材料，所述可控制裝置用來將壓力施加到所述導管的外側。

9.根據權利要求8所述的流動系統，其中，用來施加壓力的所述可控制裝置構造成用以施加機械壓力。

10.根據權利要求8所述的流動系統，其中，用來施加壓力的所述可控制裝置構造成用以借助于圍繞所述導管的液體或氣體而施加壓力。

11.根據權利要求7所述的流動系統，還包括：

a）流量計，所述流量計構造成用以測量在所述樣本流體管線中的流量；以及

b）控制器，所述控制器可操作地連接到所述流量計、并且連接到所述可變阻力流動阻滯器，構造成用以響應由所述流量計測量的所述流量，自動地調節所述可變阻力流動阻滯器的阻力。