[發明專利]透明層復合組件有效
| 申請號： | 201180051902.2 | 申請日： | 2011-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN103189323A | 公開（公告）日： | 2013-07-03 |
| 發明（設計）人： | 西爾克·沃爾夫;烏特·韋爾費爾;西蒙·里特爾;彼得·布里克斯 | 申請（專利權）人： | 肖特公開股份有限公司 |
| 主分類號： | C03C3/062 | 分類號： | C03C3/062;C03C3/064;C03C3/068;C03C3/078;C03C3/083;C03C3/089;C03C3/091;C03C3/093;C03C3/095;C03C17/42;H01L51/50 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 郭國清;穆德駿 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 德國;DE |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 透明 復合 組件 | ||
1.透明層復合組件，其包含導電透明氧化物層、半導體層和基底層，其中所述基底層包含折射率nd>1.6的光學技術混合玻璃。
2.根據權利要求1所述的透明層復合組件，其中所述光學技術混合玻璃是鑭硼酸鹽玻璃。
3.根據權利要求1所述的透明層復合組件，其中所述光學技術混合玻璃是硼硅酸鹽玻璃。
4.根據權利要求1所述的透明層復合組件，其中所述光學技術混合玻璃是硅酸鹽玻璃。
5.根據前述權利要求中的一項或多項所述的透明層復合組件，其中所述光學技術混合玻璃的折射率nd≥1.8。
6.根據前述權利要求中的一項或多項所述的透明層復合組件，其中所述光學技術混合玻璃除了不可避免的雜質之外，不含鉛、砷和/或銻的氧化還原活性氧化物。
7.根據前述權利要求中的一項或多項所述的透明層復合組件，其中所述透明氧化物層包含銦錫氧化物。
8.根據前述權利要求中的一項或多項所述的透明層復合組件，其中所述氧化物層與所述基底之間的折射率差為至多0.45。
9.根據前述權利要求中的一項或多項所述的透明層復合組件，其中所述半導體層包含有機半導體。
10.用于制造根據權利要求1至9中的一項或多項所述的層復合組件的方法，所述方法具有如下步驟：
a.以平板玻璃工藝制備基底
b.將所述基底與其它層接合成層復合組件。
11.根據權利要求10所述的方法，其中所述平板玻璃工藝為浮法工藝。
12.根據權利要求1至9中的至少一項所述的層復合組件與陰極一起在OLED中的用途。
13.根據權利要求1至9中的至少一項所述的層復合組件與陰極一起在太陽能模組中的用途。
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