[發(fā)明專利]對(duì)真空環(huán)境中的分子污染物的分析

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201180051552.X
• 申請(qǐng)日: 2011-10-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103167901A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R.J.T.索爾斯;H.H.克諾貝;P.K.德博克斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號(hào): B01D53/02
• 分類號(hào): B01D53/02;G01N1/40
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李舒;汪揚(yáng)

1.針對(duì)用于檢測(cè)真空環(huán)境(11)中的分子污染物的氣體分析系統(tǒng)(10)的預(yù)濃縮裝置，所述預(yù)濃縮裝置(13)包括：

中空元件(15)，所述中空元件(15)具有：氣體入口開(kāi)口(20)，其用于在收集階段從所述真空環(huán)境(11)接收氣體；氣體出口(31)，其用于在傳送階段中傳送氣體；以及內(nèi)壁(33)，其用于在所述收集階段中吸附氣體和在所述傳送階段中解吸氣體，以及

填充元件(14)，其可從所述收集階段中在所述中空元件外面的第一位置移動(dòng)到所述傳送階段中在所述中空元件里面的第二位置，所述第二位置讓沿著所述內(nèi)壁到所述氣體出口的傳送通道(41)開(kāi)著。

2.如權(quán)利要求1中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述中空元件具有被所述內(nèi)壁限制的內(nèi)部空間，以及所述內(nèi)部空間具有錐形形狀，并且所述填充元件(34)具有與所述內(nèi)部空間的所述錐形形狀相對(duì)應(yīng)的形狀，使得在所述第二位置中所述傳送通道(41)在所述填充元件與所述內(nèi)壁之間被形成。

3.如權(quán)利要求1中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述裝置包括用于在所述傳送階段中閉合所述氣體入口開(kāi)口的閉合元件(141)。

4.如權(quán)利要求3中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述閉合元件(141)被布置用于在所述傳送階段中將所述氣體入口開(kāi)口減小到減小的進(jìn)口(52)，以用于接納來(lái)自所述真空環(huán)境的氣體以便將解吸的氣體輸送到所述氣體出口。

5.如權(quán)利要求3或4中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述閉合元件(141)是所述填充元件上的法蘭。

6.如權(quán)利要求1中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述內(nèi)壁(33)或所述填充元件(34)包括吸附劑微粒的涂層。

7.如權(quán)利要求1中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述裝置被布置用于耦合到用于在所述收集階段中對(duì)所述內(nèi)壁或所述填充元件進(jìn)行冷卻的冷卻裝置(16)和/或用于耦合到用于在所述傳送階段中對(duì)所述內(nèi)壁或所述填充元件進(jìn)行加熱的加熱裝置。

8.如權(quán)利要求1中所要求保護(hù)的裝置，其中，所述裝置包括流進(jìn)口，其用于接納清洗介質(zhì)以便使能對(duì)解吸的氣體的輸送或?qū)λ鲱A(yù)濃縮裝置(13)的沖洗。

9.包括如權(quán)利要求1中所要求保護(hù)的預(yù)濃縮裝置的氣體分析系統(tǒng)，其中，所述系統(tǒng)包括以下中的至少一個(gè)

-?泵系統(tǒng)(43)，其用于將從所述內(nèi)壁解吸的氣體分子經(jīng)由所述傳送通道輸送到直通真空相容檢測(cè)器或第二預(yù)濃縮裝置的氣體出口，

-?冷卻裝置(16)，其用于在所述收集階段中冷卻所述內(nèi)壁或所述填充元件，和/或

-?加熱裝置(16)，其用于在所述傳送階段中加熱所述內(nèi)壁或所述填充元件，

和/或

-?真空相容檢測(cè)器(42)，其用于對(duì)所釋放的分子進(jìn)行分析以便確定所述分子污染物。

10.如權(quán)利要求9中所要求保護(hù)的氣體分析系統(tǒng)，其中，所述系統(tǒng)(10)包括：

-?氣體插入裝置(17)，其用于將相當(dāng)量的已知?dú)怏w插入到真空環(huán)境(11)中以便促進(jìn)氣體分子朝所述氣體出口的輸送。

11.用于檢測(cè)真空環(huán)境(11)中的分子污染物的氣體分析系統(tǒng)(10)中的預(yù)濃縮的方法，所述系統(tǒng)包括如權(quán)利要求1所要求保護(hù)的預(yù)濃縮裝置(13)，所述方法包括：

-?在收集階段中將所述填充元件(14)定位于在所述中空元件外面的第一位置中，

-?經(jīng)由氣體入口開(kāi)口從所述真空環(huán)境(11)接收氣體并且在所述收集階段中將所述氣體吸附在所述內(nèi)壁上，

-?在傳送階段中將所述填充元件移動(dòng)到在所述中空元件里面的第二位置，所述第二位置讓沿著所述內(nèi)壁到所述氣體出口的傳送通道開(kāi)著，以及?

-?在所述傳送階段中從所述內(nèi)壁解吸氣體并且在所述傳送階段中將所述氣體傳送到所述氣體出口。

12.如權(quán)利要求11中所要求保護(hù)的方法，其中，所述方法包括：

-?在所述收集階段中冷卻所述預(yù)濃縮裝置(13)的內(nèi)壁或所述填充元件的步驟（61），

和/或

-?在所述傳送階段中加熱所述預(yù)濃縮裝置(13)的內(nèi)壁或所述填充元件以便從所述內(nèi)壁釋放所述氣體的步驟（65）。

13.分析氣體以用于檢測(cè)真空環(huán)境中的分子污染物的方法，所述方法包括如權(quán)利要求11或12中所要求保護(hù)的方法，以及：

-?用于對(duì)所釋放的氣體進(jìn)行分析以便確定分子污染物的氣相色譜法的步驟(66)，

和/或

-?用于對(duì)所釋放的氣體進(jìn)行分析以便確定分子污染物的質(zhì)譜法的步驟，

和/或

用于對(duì)所釋放的氣體進(jìn)行分析以便確定分子污染物的元素選擇性檢測(cè)的步驟。