[發明專利]近紅外反射膜、其制造方法及設有近紅外反射膜的近紅外反射體

有效

• 申請號: 201180051207.6
• 申請日: 2011-10-26
• 公開（公告）號: CN103180764A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 久光聰史;當見恭雄;鈴木伸一;苔口典之
• 申請（專利權）人: 柯尼卡美能達株式會社
• 主分類號: G02B5/26
• 分類號: G02B5/26;B05D5/06;B32B7/02
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 賈成功

1.一種近紅外反射膜，其具有層疊單元，該層疊單元具有：

含有第1金屬氧化物粒子及第1水溶性高分子的高折射層；

含有第2金屬氧化物粒子及第2水溶性高分子的低折射層；和

位于所述高折射層和所述低折射層之間、含有所述第1金屬氧化物粒子、所述第2金屬氧化物粒子及第3水溶性高分子的混雜層，

所述低折射層的折射率比所述高折射層的折射率小0.1以上，

所述第1金屬氧化物粒子和所述第2金屬氧化物粒子為不同的金屬氧化物。

2.如權利要求1所述的近紅外反射膜，其中，所述混雜層的厚度，相對于僅含有第1金屬氧化物粒子或第2金屬氧化物粒子的一方的金屬氧化物粒子的鄰接層的最大金屬氧化物含量的75%以上存在的膜厚，為5～50%。

3.如權利要求1或2所述的近紅外反射膜，其中，在所述混雜層中，所述第1金屬氧化物粒子和所述第2金屬氧化物粒子的比率連續地變化。

4.如權利要求1～3的任一項所述的近紅外反射膜，其中，所述混雜層，通過將構成所述高折射層和所述低折射層的涂布液同時疊層涂布而設置。

5.如權利要求1～4的任一項所述的紅外反射膜，其中，在所述高折射層或所述低折射層中，所述水溶性高分子和所述金屬氧化物粒子的質量比（水溶性高分子的質量/金屬氧化物粒子的質量）為0.3～10的范圍。

6.如權利要求1～5的任一項所述的紅外反射膜，其中，所述層疊單元將光學膜厚不同的多個高折射層及低折射層層疊而構成。

7.一種近紅外反射體，其特征在于，權利要求1～6的任一項所述的近紅外反射膜設于基體的至少一方的面。

8.一種近紅外反射膜的制造方法，其中，通過將含有第1水溶性高分子及第1金屬氧化物粒子的第1涂布液和含有第2水溶性高分子及第2金屬氧化物粒子的第2涂布液同時疊層涂布，形成折射率不同的2個層和位于所述折射率不同的2個層之間的不同的金屬氧化物粒子的比率連續地變化的混雜層。

9.如權利要求8所述的紅外反射膜，其中，使從所述第1涂布液及所述第2涂布液的同時疊層涂布至進行凝結的時間為5分鐘以內。