[發(fā)明專利]用于處理包括瘺管的組織部位的減壓系統(tǒng)、裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180049922.6 | 申請日： | 2011-10-06 |
| 公開（公告）號： | CN103167885A | 公開（公告）日： | 2013-06-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 科林·約翰·霍爾;理查德·保羅·莫爾米諾 | 申請（專利權(quán)）人： | 凱希特許有限公司 |
| 主分類號： | A61M1/00 | 分類號： | A61M1/00 |
| 代理公司： | 北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11262 | 代理人： | 賈媛媛;王漪 |
| 地址： | 美國得*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 用于 處理 包括 瘺管 組織 部位 減壓 系統(tǒng) 裝置 方法 | ||
1.用于向包括一個瘺管的一個傷口床提供減壓處理的一個系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：
一個瘺管隔離裝置，用于隔離正在經(jīng)受減壓處理的該傷口床中的該瘺管，該瘺管隔離裝置包括：
具有一個第一孔的一個第一凸緣構(gòu)件，
具有一個第二孔的一個第二凸緣構(gòu)件，
一個可調(diào)整通道構(gòu)件，該可調(diào)整通道構(gòu)件連接到該第一凸緣構(gòu)件和該第二凸緣構(gòu)件，該可調(diào)整通道構(gòu)件具有與該第一凸緣構(gòu)件的該第一孔以及該第二凸緣構(gòu)件的該第二孔基本上對齊的一個通道，
其中該可調(diào)整通道構(gòu)件可在一個收縮位置與一個伸長位置之間可變地移動，在該收縮位置中，該可調(diào)整通道構(gòu)件具有長度LR，在該伸長位置中，該可調(diào)整通道具有長度LE，且其中LE>3LR，
其中該可調(diào)整通道構(gòu)件基本上是流體不可滲透的，
以及
一個周邊構(gòu)件，該周邊構(gòu)件基本上定位在該可調(diào)整通道構(gòu)件的一個外部周邊周圍，在該第一凸緣構(gòu)件與該第二凸緣構(gòu)件之間；
一個分配歧管，該分配歧管具有一個瘺孔以用于接收該瘺管隔離裝置；
一個密封構(gòu)件，用于覆蓋該瘺管隔離裝置和該分配歧管，從而在該傷口床的至少一部分上形成一個密封空間，其中該密封構(gòu)件具有流體連接到該可調(diào)整通道的一個造口術(shù)接口孔；
一個減壓源，用于供應(yīng)減壓；
一個減壓接口，該減壓接口流體連接到該分配歧管；
一個減壓遞送導(dǎo)管，該減壓遞送導(dǎo)管流體連接到該減壓源以及該減壓接口；以及
一個造口術(shù)器具，該造口術(shù)器具流體連接到該瘺管隔離裝置的該第一凸緣構(gòu)件上的該第一孔。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中該瘺管隔離裝置進(jìn)一步包括連接到該第一凸緣構(gòu)件的一個造口術(shù)器具接口。
3.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中該分配歧管在不經(jīng)受減壓時具有初始一個高度hd1，其中該瘺管隔離裝置在不經(jīng)受減壓時具有一個初始高度hF1，且其中hd1基本上等于hF1。
4.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中
該分配歧管在不經(jīng)受減壓時具有一個初始高度hd1；
該瘺管隔離裝置在不經(jīng)受減壓時具有一個初始高度hF1，且hd1基本上等于hF1；
在該密封空間經(jīng)受處于第一治療壓力范圍中的減壓時，該分配歧管具有一個高度hd2；
在該密封空間經(jīng)受處于第一治療壓力的減壓且該密封構(gòu)件將一個力遞送到該第一凸緣構(gòu)件時，該瘺管隔離裝置具有一個高度hF2，且其中hd2基本上等于hF2。
5.如權(quán)利要求1或以上權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng)，其中該可調(diào)整通道構(gòu)件包括具有小于1毫米的厚度的一個環(huán)形壁構(gòu)件。
6.如權(quán)利要求1或以上權(quán)利要求中任一項所述的系統(tǒng)，其中該周邊構(gòu)件包括一種第一材料且分配歧管包括該第一材料。
7.如權(quán)利要求1或以上權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其中該可調(diào)整通道構(gòu)件包括具有多個波紋管的一個環(huán)形壁。
8.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2-6中任一項所述的裝置，其中該可調(diào)整通道構(gòu)件包括具有多個可收縮折疊部分的一個環(huán)形壁。
9.如權(quán)利要求1或以上權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其中在處于該伸長位置中時，該可調(diào)整通道構(gòu)件具有比該收縮位置的長度大六倍的一個長度LE（LE>6LR）。
10.如權(quán)利要求1或權(quán)利要求2-8中任一項所述的裝置，其中在處于該伸長位置中時，該可調(diào)整通道構(gòu)件具有比該收縮位置的長度大十倍的一個長度LE（LE>10LR）。
11.如權(quán)利要求1或以上權(quán)利要求中任一項所述的裝置，其中該周邊構(gòu)件是流體可滲透的。
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