[發(fā)明專利]表面處理裝置和方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201180046579.X | 申請日: | 2011-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN103124597A | 公開(公告)日: | 2013-05-29 |
| 發(fā)明(設計)人: | 安西·霍維寧 | 申請(專利權)人: | 倍耐克有限公司 |
| 主分類號: | B05B15/04 | 分類號: | B05B15/04;B05B7/14;B05D1/10;C23C24/04 |
| 代理公司: | 北京市鑄成律師事務所 11313 | 代理人: | 郝文博 |
| 地址: | 芬蘭*** | 國省代碼: | 芬蘭;FI |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 表面 處理 裝置 方法 | ||
1.一種表面處理裝置,所述表面處理裝置包括:
源元件,所述源元件用于噴射作為表面處理顆粒的定向流的前體物質(zhì)的組合;
輸送器元件,所述輸送器元件用于將平面物體沿著界定的平面輸送穿過所述顆粒流;
所述表面處理裝置的特征在于
定向工具,所述定向工具用于將所述顆粒流定向成沿著所述平面物體的表面移動;和
流控制工具,所述流控制工具用于控制所述顆粒流沿著所述平面物體的所述表面的移動的程度。
2.根據(jù)權利要求1所述的表面處理裝置,其特征在于,在操作過程中,所述顆粒流大體上在其平均速度的方向上撞擊的所述平面物體的所述表面上的區(qū)域形成直接影響區(qū)域;
所述定向工具配置成將所述顆粒流定向為在所述直接影響區(qū)域之外的擴展影響區(qū)域內(nèi)沿著所述平面物體的所述表面移動;且
所述流控制工具配置成控制所述擴展影響區(qū)域的程度。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的表面處理裝置,其特征在于,所述源元件配置成噴射液體混合物,并且所述源元件包括用于輸出作為微滴射流的所述液體混合物的噴嘴。
4.根據(jù)權利要求1、2或3所述的表面處理裝置,其特征在于,所述源元件也提供用于將所述前體物質(zhì)的組合轉化為定向顆粒流的熱反應器。
5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,所述顆粒流的方向配置成對應于所述顆粒流的所述平均速度矢量的方向。
6.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,所述顆粒流的所述方向和所述界定的平面之間的角度配置成大體上為90度。
7.根據(jù)權利要求1至5中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,所述顆粒流的所述方向和所述界定的平面之間的角度在1至90度的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權利要求1至7中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,所述流控制工具包括偏轉工具,所述偏轉工具用于在所述擴展影響區(qū)域之外將所述顆粒流從所述平面物體的所述表面偏轉。
9.根據(jù)權利要求8所述的表面處理裝置,其特征在于,所述偏轉工具配置成在其中將發(fā)生自然分離的區(qū)域之前將所述顆粒流從所述平面物體的所述表面偏轉。
10.根據(jù)權利要求1至9中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,所述定向工具包括吹氣工具,所述吹氣工具用于將惰性氣體吹向沿著所述被處理表面移動的所述顆粒流。
11.根據(jù)權利要求1至10中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,包括兩個或兩個以上的噴嘴,所述噴嘴之間的距離或噴嘴排之間的距離經(jīng)調(diào)整使得鄰近噴嘴或噴嘴排的顆粒流發(fā)生碰撞。
12.根據(jù)權利要求1至11中任一項所述的表面處理裝置,其特征在于,包括兩個或兩個以上的噴嘴,所述噴嘴之間的距離經(jīng)調(diào)整使得鄰近噴嘴的顆粒流重疊。
13.一種表面處理方法,所述方法包括:
噴射作為表面處理顆粒的定向流的前體物質(zhì)的組合;
沿著界定的平面將平面物體輸送穿過所述顆粒流;
將所述顆粒流定向成沿著所述平面物體的表面移動;和
控制所述顆粒流沿著所述區(qū)域的移動的程度。
14.根據(jù)權利要求13所述的方法,其特征在于,所述前體物質(zhì)的組合包括液體混合物,并且所述方法包括輸出作為微滴射流的所述液體混合物。
15.根據(jù)權利要求13或14所述的方法,其特征在于,在熱反應器中將所述前體物質(zhì)的組合轉化為定向顆粒流。
16.根據(jù)權利要求13至15中任一項所述的方法,其特征在于,所述顆粒流的方向對應于所述顆粒流的平均速度矢量的方向。
17.根據(jù)權利要求13至16中任一項所述的方法,其特征在于,所述顆粒流的所述方向和所述界定的平面之間的角度大體上為90度。
18.根據(jù)權利要求13至17中任一項所述的方法,其特征在于,所述顆粒流的所述方向和所述界定的平面之間的角度在1至90度的范圍內(nèi)變化。
19.根據(jù)權利要求13至18中任一項所述的方法,其特征在于,在所述擴展影響區(qū)域之外將所述顆粒流從所述平面物體的所述表面偏轉。
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