[發(fā)明專(zhuān)利]光反應(yīng)性聚合物及包括該聚合物的取向?qū)?/span>有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201180046564.3 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103124750A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-05-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 柳東雨;全成浩;崔大勝 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 株式會(huì)社LG化學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | C08F32/08 | 分類(lèi)號(hào): | C08F32/08;C08G61/02;C08L45/00;C09K19/56;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京北翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11285 | 代理人: | 蘇萌;鐘守期 |
| 地址: | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 韓國(guó);KR |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光反應(yīng) 聚合物 包括 取向 | ||
1.一種光反應(yīng)性聚合物,其包括具有至少一個(gè)光反應(yīng)性取代基的基于環(huán)狀烯烴的重復(fù)單元,
所述光反應(yīng)性聚合物在總曝光劑量為20mJ/cm2或更低時(shí)曝光至波長(zhǎng)為150至450nm的偏振UV輻射后由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每單位UV劑量的二氯比變化的最大絕對(duì)值至少為0.003。
2.權(quán)利要求1的光反應(yīng)性聚合物,其中由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每單位UV劑量的二氯比變化的最大絕對(duì)值為0.003至0.008。
3.權(quán)利要求1的光反應(yīng)性聚合物,其中在總曝光劑量20mJ/cm2時(shí)曝光至波長(zhǎng)為150至450nm的偏振UV輻射后由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每單位UV劑量的二氯比變化的最大絕對(duì)值為0.003至0.008。
4.權(quán)利要求1或3的光反應(yīng)性聚合物,所述光反應(yīng)性聚合物吸收波長(zhǎng)為270至340nm的偏振UV輻射。
5.權(quán)利要求1的光反應(yīng)性聚合物,其中在總曝光劑量為500mJ/cm2或更高時(shí)曝光至偏振UV輻射后由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每單位UV劑量的二氯比變化的絕對(duì)值保持在0至0.00006范圍。
6.權(quán)利要求5的光反應(yīng)性聚合物,其中在總曝光劑量為500至2,500mJ/cm2時(shí)曝光至光后由d(二氯比)/d(mJ/cm2)得到的每單位UV劑量的二氯比變化的絕對(duì)值保持在0至0.00006范圍。
7.權(quán)利要求1的光反應(yīng)性聚合物,其中基于環(huán)狀烯烴的重復(fù)單元包括下式3a或3b的重復(fù)單元:
[式3a]???????????????[式3b]
其中獨(dú)立地,m為50至5,000;
q為0至4的整數(shù);
R1、R2、R3和R4中至少一個(gè)為下式1a和1b所代表基團(tuán)的任何一個(gè),
在R1至R4中,除式1a或1b的基團(tuán)外的余者為相同或彼此不同并且獨(dú)立地選自氫;鹵素;具有1至20個(gè)碳原子的取代或未取代的直鏈或支鏈烷基;具有2至20個(gè)碳原子的取代或未取代的直鏈或支鏈烯基;具有2至20個(gè)碳原子的取代或未取代的直鏈或支鏈炔基;具有3至12個(gè)碳原子的取代或未取代的環(huán)烷基;具有6至40個(gè)碳原子的取代或未取代的芳基;和包括氧、氮、磷、硫、硅和硼中至少一個(gè)的極性官能團(tuán),
當(dāng)R1至R4不為氫、鹵素或極性官能團(tuán)時(shí),R1和R2配位以及R3和R4配位中至少一個(gè)配位彼此鍵合以形成具有1至10個(gè)碳原子的亞烷基;或者R1或R2鍵合至R3或R4以形成具有4至12個(gè)碳原子的飽和或不飽和的脂肪族環(huán)或具有6至24個(gè)碳原子的芳香族環(huán),
[式1a]????????????????[式1b]
其中A為化學(xué)鍵、氧、硫或–NH-;
B選自化學(xué)鍵、具有1至20個(gè)碳原子的取代或未取代的亞烷基、羰基、羧基、酯、具有6至40個(gè)碳原子的取代或未取代的亞芳基和具有6至40個(gè)碳原子的取代或未取代的雜亞芳基;
X為氧或硫;
R9選自化學(xué)鍵、具有1至20個(gè)碳原子的取代或未取代的亞烷基、具有2至20個(gè)碳原子的取代或未取代的亞烯基、具有3至12個(gè)碳原子的取代或未取代的亞環(huán)烷基、具有6至40個(gè)碳原子的取代或未取代的亞芳基、具有7至15個(gè)碳原子的取代或未取代的亞芳烷基和具有2至20個(gè)碳原子的取代或未取代的亞炔基;
R10至R14中至少一個(gè)為–L-R15-R16-(取代或未取代的C6-C40芳基)代表的基團(tuán),
在R10至R14中,除–L-R15-R16-(取代或未取代的C6-C40芳基)基團(tuán)外的余者為相同或彼此不同并且獨(dú)立地選自氫;鹵素;具有1至20個(gè)碳原子的取代或未取代的烷基;具有1至20個(gè)碳原子的取代或未取代的烷氧基;具有6至30個(gè)碳原子的取代或未取代的芳氧基;具有6至40個(gè)碳原子的取代或未取代的芳基;和具有第14、15或16族中的雜元素的含6至40個(gè)碳原子的雜芳基;
L選自氧、硫、-NH-、具有1至20個(gè)碳原子的取代或未取代的亞烷基、羰基、羧基、-CONH-和具有6至40個(gè)碳原子的取代或未取代的亞芳基;
R15為具有1至10個(gè)碳原子的取代或未取代的烷基;并且
R16選自化學(xué)鍵、-O-、-C(=O)O-、-OC(=O)-、-NH-、-S-和–C(=O)-。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社LG化學(xué),未經(jīng)株式會(huì)社LG化學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201180046564.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 同類(lèi)專(zhuān)利
- 專(zhuān)利分類(lèi)
- 光反應(yīng)性化合物、光反應(yīng)性聚胺和產(chǎn)生聚胺片的方法
- 一種光能生物培養(yǎng)系統(tǒng)的反應(yīng)區(qū)結(jié)構(gòu)和培養(yǎng)光能生物的方法
- 一種光能生物培養(yǎng)系統(tǒng)的反應(yīng)區(qū)裝置和帶有反應(yīng)區(qū)裝置的光反應(yīng)器
- 具有光致交聯(lián)能力的光響應(yīng)性核苷酸類(lèi)似物
- 一種低/常溫光反應(yīng)器
- 一種微藻培養(yǎng)的光生物反應(yīng)器
- 一種可提高反應(yīng)效率的維生素D2光反應(yīng)裝置
- 碳納米材料的制備裝置及工藝
- 在可見(jiàn)光區(qū)能進(jìn)行光交聯(lián)的光響應(yīng)性核苷酸類(lèi)似物
- 一種新型的光反應(yīng)器





