[發(fā)明專(zhuān)利]具有再循環(huán)加熱和真空排放功能的劑量系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201180043246.1 | 申請(qǐng)日: | 2011-07-20 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103097679A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-05-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | R·U·伊薩達(dá);李永祥 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 卡特彼勒公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | F01N3/10 | 分類(lèi)號(hào): | F01N3/10;F01N3/28;F01N3/20;B01D53/94 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 蘇娟;朱利曉 |
| 地址: | 美國(guó)伊*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 再循環(huán) 熱和 真空 排放 功能 劑量 系統(tǒng) | ||
1.一種還原劑劑量系統(tǒng)(10),包括:
還原劑的供應(yīng)裝置(16);
還原劑噴嘴(20);
具有入口(28)和出口(30)的泵(18);
第一通道(32),其將所述供應(yīng)裝置連接到所述泵的入口;
第一控制閥(40),其布置在所述第一通道中;
第二通道(34),其將所述泵的出口連接到所述還原劑噴嘴;
第二控制閥(42),其布置在所述第二通道中;
第三通道(48),其在所述第一控制閥下游的位置處將所述第二控制閥連接到第一通道;以及
第四通道(50),其將所述第二控制閥連接到所述供應(yīng)裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的還原劑劑量系統(tǒng),其中,所述第三通道在所述泵上游的位置處連接到第一通道。
3.如權(quán)利要求1所述的還原劑劑量系統(tǒng),其中:
所述第一控制閥是兩位兩通閥;
所述第二控制閥是三位四通閥;以及
所述第一控制閥和第二控制閥是電磁操作、彈簧偏壓的。
4.如權(quán)利要求1所述的還原劑劑量系統(tǒng),還包括與所述供應(yīng)裝置和所述泵中的至少一個(gè)相關(guān)的至少一個(gè)加熱器(22)。
5.如權(quán)利要求1所述的還原劑劑量系統(tǒng),還包括與所述還原劑噴嘴、所述泵、所述第一控制閥和第二控制閥通信的控制器(46),所述控制器能夠在單個(gè)方向上操作所述泵、選擇性地打開(kāi)和關(guān)閉所述還原劑噴嘴、運(yùn)動(dòng)所述第一控制閥和運(yùn)動(dòng)所述第二控制閥以實(shí)施噴射操作模式、無(wú)氣排放操作模式和再循環(huán)加熱操作模式。
6.如權(quán)利要求5所述的還原劑劑量系統(tǒng),還包括:
廢氣傳感器(38),其能夠檢測(cè)廢氣流的成分,其中所述廢氣傳感器的輸出觸發(fā)噴射操作模式的實(shí)施;
發(fā)動(dòng)機(jī)傳感器(52),其能夠檢測(cè)相關(guān)發(fā)動(dòng)機(jī)的操作狀態(tài),其中所述發(fā)動(dòng)機(jī)傳感器的輸出觸發(fā)排放操作模式的實(shí)施;以及
溫度傳感器(26),其與所述供應(yīng)裝置相關(guān),其中所述溫度傳感器的輸出觸發(fā)再循環(huán)加熱操作模式的實(shí)施。
7.如權(quán)利要求6所述的還原劑劑量系統(tǒng),其中,所述還原劑噴嘴包括打開(kāi)位置和關(guān)閉位置,所述控制器還能夠影響還原劑噴嘴在打開(kāi)位置和關(guān)閉位置之間的運(yùn)動(dòng),以實(shí)施所述噴射操作模式、無(wú)氣排放操作模式和再循環(huán)加熱操作模式。
8.一種操作還原劑劑量系統(tǒng)(10)的方法,包括:
經(jīng)泵(18)的入口(28)從供應(yīng)裝置(16)抽吸低壓還原劑;
經(jīng)泵的出口(30)將加壓的還原劑引導(dǎo)到噴嘴(20)以噴射還原劑;
通過(guò)所述泵從所述噴嘴抽吸還原劑以真空排放還原劑劑量系統(tǒng);以及
在排放過(guò)程中阻止低壓還原劑從供應(yīng)裝置的抽吸。
9.如權(quán)利要求8所述的方法,還包括:
加熱還原劑;以及
經(jīng)再循環(huán)通道(48)引導(dǎo)受熱的還原劑以解凍供應(yīng)裝置中的還原劑。
10.如權(quán)利要求9所述的方法,還包括:
在經(jīng)再循環(huán)通道引導(dǎo)受熱還原劑時(shí)阻止還原劑流到噴嘴;
在噴射過(guò)程中阻止經(jīng)再循環(huán)通道的流動(dòng);以及
重力排放還原劑劑量系統(tǒng)的至少一個(gè)通道(32,34)。
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