[發明專利]薄型偏光膜的制造方法

有效

• 申請號: 201180042452.0
• 申請日: 2011-09-01
• 公開（公告）號: CN103080791A
• 公開（公告）日: 2013-05-01
• 發明（設計）人: 北岸一志;灰田信幸;后藤周作;喜多川丈治
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;B29C55/06;B32B27/30;B32B27/36;G02F1/1335
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

1.一種薄型偏光膜的制造方法，其包括：

在由具有通式（I）所示的重復單元（間苯二甲酸單元）的聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂構成的熱塑性樹脂基材上形成聚乙烯醇系樹脂層，制作層疊體的工序；和

將該層疊體在硼酸水溶液中進行水中拉伸的工序。

2.根據權利要求1所述的薄型偏光膜的制造方法，其中，相對于全部重復單元的總和，所述間苯二甲酸單元為1摩爾%～20摩爾%。

3.根據權利要求1或2所述的薄型偏光膜的制造方法，其中，所述聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂具有通式（IV）所示的重復單元（二甘醇單元）。

4.根據權利要求3所述的薄型偏光膜的制造方法，其中，相對于全部重復單元的總和，所述二甘醇單元為0.1摩爾%～5摩爾%。

5.根據權利要求1～4中的任一項所述的薄型偏光膜的制造方法，其中，所述聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂的重均分子量（Mw）為30000～200000。

6.根據權利要求1～5中的任一項所述的薄型偏光膜的制造方法，其中，所述熱塑性樹脂基材的吸水率為0.2%以上。

7.根據權利要求1～6中的任一項所述的薄型偏光膜的制造方法，其中，所述層疊體的最大拉伸倍率為5.0倍以上。

8.根據權利要求1～7中的任一項所述的薄型偏光膜的制造方法，其包括：在所述硼酸水中拉伸之前，在95℃以上對所述層疊體進行空中拉伸的工序。

9.一種薄型偏光膜，其是通過權利要求1～8中的任一項所述的薄型偏光膜的制造方法而得到的。

10.一種光學層疊體，其具有權利要求9所述的薄型偏光膜。

11.一種層疊體，其具有：

由具有通式（I）所示的重復單元（間苯二甲酸單元）的聚對苯二甲酸乙二醇酯系樹脂構成的熱塑性樹脂基材、和

在該熱塑性樹脂基材上形成的聚乙烯醇系樹脂層。