[發明專利]具有流動凹槽的主缸

有效

• 申請號: 201180035643.4
• 申請日: 2011-06-16
• 公開（公告）號: CN103003114A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: A·P·沃森
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: B60T11/20
• 分類號: B60T11/20;B60T11/232;B60T11/236
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周家新;蔡洪貴

1.一種主缸，包括：

缸孔；

位于所述缸孔內的第一活塞；

位于所述缸孔內并且定位在第一活塞前側的第二活塞；

位于所述缸孔內的第一壓力腔室，所述第一壓力腔室被第二活塞的后部分和第一活塞的前部分部分地限定；

從第二活塞的后部分徑向向外延伸的第一壓力腔室密封件；

第一容器入口，其被構造成在第一壓力腔室密封件的前側位置處為容器和缸孔之間提供流體連通；以及

沿缸孔軸向延伸的第一凹槽，所述第一凹槽被定位成使得：（i）當第二活塞處于釋放位置時，第一凹槽恰好位于第一壓力腔室密封件之外，并且容器通過第一凹槽與第一壓力腔室流體連通，且（ii）當第二活塞處于啟動位置時，第一壓力腔室密封件在第一凹槽的前側位置處將容器與第一壓力腔室隔離開。

2.根據權利要求1所述的主缸，其中，第一凹槽是多個凹槽中的一個凹槽，所述多個凹槽中的每個沿缸孔軸向延伸并且定位成使得：當第二活塞處于釋放位置時，所述多個凹槽中的每個恰好定位在第一壓力腔室密封件之外。

3.根據權利要求1所述的主缸，其中，第一凹槽完全繞著所述缸孔徑向延伸。

4.根據權利要求1所述的主缸，還包括：

位于缸孔內的第二壓力腔室，所述第二壓力腔室被第二活塞的前部分部分地限定。

5.根據權利要求4所述的主缸，還包括：

第二容器入口，其被構造成在第一壓力腔室密封件的前側位置處為容器和缸孔之間提供流體連通；以及

從第二活塞徑向向外延伸的第二密封件，所述第二密封件限定第二壓力腔室的后部分和低壓區域的前部分，所述低壓區域在第二密封件和第一壓力腔室密封件之間延伸。

6.根據權利要求5所述的主缸，還包括：

在低壓區域和第二活塞的后表面之間延伸的釋放路徑；以及

被構造成與第二活塞的后表面密封地接合的第一提升閥組件。

7.根據權利要求6所述的主缸，還包括：

被構造成將第二壓力腔室與容器隔離開的第二提升閥組件。

8.一種制動系統，包括：

主缸，其包括限定孔的一部分的內壁；

位于所述孔內的主活塞；

位于所述孔內并且定位在主活塞前側的從活塞；

位于孔內的主壓力腔室，所述主壓力腔室被從活塞的后部分以及主活塞的前部分部分地限定；

位于所述孔內的從壓力腔室，所述從壓力腔室被從活塞的前部分部分地限定；

從第二活塞徑向向外延伸的第一密封件，所述第一密封件將從壓力腔室與低壓從區域隔離開；

從第二活塞徑向向外延伸的第二密封件，所述第二密封件位于低壓從區域和主壓力腔室之間；

與低壓從區域流體連通的容器；以及

沿所述孔軸向延伸的第一凹槽，所述第一凹槽被定位成使得：（i）當從活塞處于釋放位置時，第一凹槽恰好位于第二密封件之外，并且容器通過第一凹槽與主壓力腔室流體連通，且（ii）當從活塞處于啟動位置時，第二密封件與內壁密封地接合，以便將容器與主壓力腔室隔離開。

9.根據權利要求8所述的制動系統，其中，第一凹槽是多個凹槽中的一個凹槽，所述多個凹槽中的每個沿孔軸向延伸，并且被定位成使得：當從活塞處于釋放位置時，所述多個凹槽中的每個恰好位于第二密封件之外。

10.根據權利要求8所述的制動系統，其中，第一凹槽完全繞著所述孔徑向延伸。

11.根據權利要求8所述的制動系統，其中，容器與從壓力腔室入口流體連通。

12.根據權利要求11所述的制動系統，還包括：

在低壓從區域和從活塞的后表面之間延伸的釋放路徑；以及

被構造成與從活塞的后表面密封地接合的第一提升閥組件。

13.根據權利要求12所述的制動系統，還包括：

被構造成將從壓力腔室與容器隔離開的第二提升閥組件。