[發明專利]管中的工具的探測

有效

• 申請號: 201180035044.2
• 申請日: 2011-05-13
• 公開（公告）號: CN103003523B
• 公開（公告）日: 2016-09-21
• 發明（設計）人: 勞倫特·維里加斯;克里斯托弗·德爾卡波;克里斯汀·斯托勒
• 申請（專利權）人: 普拉德研究及開發股份有限公司
• 主分類號: E21B47/00
• 分類號: E21B47/00;E21B49/00;G01V5/12;G01V5/10
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 孫紀泉

1.一種用于攜帶通過鉆管部署的工具的工具串，其包括：

傳感器，其用于進行測量，所述測量給出關于所述工具是否已部署在所述鉆管之下的指示，

其中當確定所述工具已部署在所述鉆管之下時，向所述工具串供電以進行測井，所述工具已部署在所述鉆管之下的確定基于所述指示。

2.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括由所述傳感器進行的多個測量，并且

其中所述傳感器包括多個傳感器。

3.如權利要求1所述的工具串，其中測井數據的采集基于所述工具已部署在所述鉆管之下的所述確定而開始。

4.如權利要求1所述的工具串，其中所述工具串被鎖到所述鉆管的底部。

5.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一個：使用一個或多個γ-射線探測器的γ-γ密度和光電因子(PEF)測量。

6.如權利要求5所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一個：與預定的限制比較的在所述γ-射線探測器中的一個或多個中的校準的計數率。

7.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一個：

由設備對所述工具串上的密度極板進行的超聲波測量；

電介質測量；以及

實質上與密度測量組合的電阻率測量。

8.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一個：

與預定的限制比較的表觀γ-γ密度；

在兩個或多個γ-γ密度探測器所測量的表觀密度之間的差異；

使用一個或多個探測器測量的γ-射線能譜的能譜形狀；

來自多個γ射線探測器的計數率，其中所述計數率被輸入到正演模型中，且其中所述指示基于由于所述正演模型的反演而產生的重構誤差；以及

來自進入神經網絡的多個探測器的計數率，所述多個探測器確定鉆管的存在或缺少。

9.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量基于能譜中的低能量能譜窗口中的計數和高能量能譜窗口中的計數之間的比。

10.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一項：

用于獲得密度和PEF的來自密度探測器的多個能量窗口的計數率的正演模型和反演；以及

在一個或多個能量窗口中的所述一個或多個γ-射線探測器的計數率的正演模型，其中所述正演模型包括對圍繞所述工具的鉆管的響應和求出圍繞所述工具的鉆管的存在的反演。

11.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括使用包含至少一個熱探測器或超熱探測器的中子孔隙度測井儀進行的測量。

12.如權利要求11所述的工具串，其中所述測量包括基于所述計數率的預設限制的一個或多個探測器的校準的計數率。

13.如權利要求11所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一項：

在基于遠中子探測器和近中子探測器的計數率之比的表觀孔隙度和基于近熱中子探測器的計數率的表觀孔隙度之間的差異；

在基于遠中子探測器的計數率的表觀孔隙度和基于近熱中子探測器的計數率的表觀孔隙度之間的差異；

在基于遠中子探測器的計數率的表觀孔隙度(a)和基于近熱中子探測器的計數率的表觀孔隙度(b)之間的比；以及

在基于遠中子探測器和近中子探測器的計數率比的表觀孔隙度(a)和基于近熱中子探測器的計數率的表觀孔隙度(b)之間的比。

14.如權利要求1所述的工具串，其中連接到所述工具串的井徑儀基于正的指示而打開，且其中如果所述井徑儀不能在預定的值之外打開，則所述井徑儀隨后閉合。

15.如權利要求14所述的工具串，其中所述測量在預定的等待時間之后重復，以確定所述井徑儀是否能夠被打開。

16.如權利要求1所述的工具串，其中所述測量包括下列項中的至少一個：電阻率測量、感應測量、電流引起的電阻率測量、核磁共振測量、聲波測量、超聲波測量和來自磁性傳感器的測量。