[發明專利]電子照相感光構件、處理盒和電子照相設備有效
| 申請號: | 201180032350.0 | 申請日: | 2011-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN102971675A | 公開(公告)日: | 2013-03-13 |
| 發明(設計)人: | 關戶邦彥;關谷道代;丸山晃洋;高木進司;長坂秀昭 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G5/07 | 分類號: | G03G5/07;G03G5/043;G03G5/05;G03G5/06 |
| 代理公司: | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人: | 魏啟學 |
| 地址: | 日本東京都大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 感光 構件 處理 設備 | ||
1.一種電子照相感光構件,其包括支承體、形成于所述支承體上的底涂層和形成于所述底涂層上的感光層,所述感光層包含電荷產生材料和空穴輸送材料,
其中所述底涂層包含具有由下式(1)表示的重復結構單元的聚合物,條件是從所述具有由下式(1)表示的重復結構單元的聚合物中排除進一步具有由下式(2)表示的重復結構單元的聚合物:
其中,式(1)和(2)中,Z1至Z4各自獨立地表示單鍵、亞烷基、亞芳基、用烷基取代的亞芳基、或亞芳烷基;W1至W4各自獨立地表示單鍵、氨基甲酸酯鍵、或脲鍵;B1表示用羧基或磺酸基取代的亞芳基、用羧基和烷基取代的亞芳基、或用羧基或磺酸基取代的亞烷基;B2表示亞芳基,亞烷基,亞芳烷基,用烷基、鹵素原子、氰基或硝基取代的亞芳基,用鹵素原子、氰基或硝基取代的亞烷基,用烷基、鹵素原子、氰基或硝基取代的亞芳烷基,由醚或磺酰基中斷的亞芳基,或由醚中斷的亞烷基;A1和A2各自獨立地表示由任意下式(A-1)至(A-8)表示的二價基團:
其中,式(A-1)中,R101至R104各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,或鍵合位點;R105和R106各自獨立地表示芳基、用烷基或鹵素原子取代的芳基、烷基、或鍵合位點;條件是R101至R106中的兩個各自為鍵合位點;
式(A-2)中,R201至R208各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基、氰基、或鍵合位點;R209和R210各自獨立地表示氫原子、芳基、用烷基或鹵素原子取代的芳基、烷基、或鍵合位點;條件是R201至R210中的兩個各自為鍵合位點;
式(A-3)中,R301至R308各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,硝基,或鍵合位點;R309表示氧原子、或二氰基亞甲基;R310和R311各自獨立地表示碳原子、或氮原子;在R310為氮原子的情況中,R304不存在,和在R311為氮原子的情況中,R305不存在;條件是R301至R308中的兩個各自為鍵合位點;
式(A-4)中,R401至R406各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,硝基,或鍵合位點;和R407表示氧原子、或二氰基亞甲基;條件是R401至R406中的兩個各自為鍵合位點;
式(A-5)中,R501至R508各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,硝基,或鍵合位點;R509和R510各自獨立地表示氧原子、或二氰基亞甲基;R511和R512各自獨立地表示碳原子、或氮原子;在R511為氮原子的情況中,R501不存在,和在R512為氮原子的情況中,R505不存在;條件是R501至R508中的兩個各自為鍵合位點;
式(A-6)中,R601至R608各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,硝基,羰酸酯基,或鍵合位點;R610和R611各自獨立地表示碳原子、或氮原子;在R610為氮原子的情況中,R604不存在,和在R611為氮原子的情況中,R605不存在;和R609表示二氰基亞甲基;條件是R601至R608中的兩個各自為鍵合位點;
式(A-7)中,R701至R713各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,硝基,羰酸酯基,或鍵合位點;R714和R715各自獨立地表示碳原子、或氮原子;在R714為氮原子的情況中,R704不存在,和在R715為氮原子的情況中,R705不存在;條件是R701至R713中的兩個各自為鍵合位點;和
式(A-8)中,R801至R808各自獨立地表示氫原子,芳基,用鹵素原子、硝基、氰基、烷基或鹵代烷基取代的芳基,烷基,氰基,硝基,或鍵合位點;條件是R801至R808中的兩個各自為鍵合位點。
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