[發明專利]電磁波反射膜及其制造方法無效
| 申請號： | 201180031718.1 | 申請日： | 2011-05-18 |
| 公開（公告）號： | CN102959437A | 公開（公告）日： | 2013-03-06 |
| 發明（設計）人： | 浜田聰;竹重彰詞;鹿島啟二 | 申請（專利權）人： | 大日本印刷株式會社 |
| 主分類號： | G02B5/30 | 分類號： | G02B5/30;G02B5/26 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 雒運樸 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電磁波 反射 及其 制造 方法 | ||
1.一種電磁波反射膜的制造方法，其特征在于，
具有：
第一選擇反射層形成工序，使用透明基板，在所述透明基板上涂布含有由下述結構式(I)表示的棒狀化合物、對所述棒狀化合物賦予回旋性的第一手性劑、及第一調平劑的第一選擇反射層形成用涂布液，從而形成第一選擇反射層形成用層，通過對所述第一選擇反射層形成用層照射25mJ/cm2～800mJ/cm2的范圍的紫外線而形成第一選擇反射層；
第二選擇反射層形成工序，使用含有由下述結構式(I)表示的棒狀化合物、對所述棒狀化合物賦予回旋性的第二手性劑、及第二調平劑的第二選擇反射層形成用涂布液，在所述第一選擇反射層上直接相接地涂布所述第二選擇反射層形成用涂布液而形成第二選擇反射層形成用層，通過對所述第二選擇反射層形成用層照射紫外線而形成第二選擇反射層，
[化1]
2.根據權利要求1所述的電磁波反射膜的制造方法，其特征在于，
所述第一選擇反射層的表面與純水的接觸角為65～85度的范圍內。
3.根據權利要求1或2所述的電磁波反射膜的制造方法，其特征在于，
所述第一選擇反射層的表面的維氏硬度為5～25的范圍內。
4.一種電磁波反射膜，具有：透明基板、形成于所述透明基板上且含有形成膽甾型構造的由下述結構式(I)表示的棒狀化合物的第一選擇反射層、形成于所述第一選擇反射層上且含有形成膽甾型構造的由下述結構式(I)表示的棒狀化合物的第二選擇反射層，其特征在于，
在所述第一選擇反射層上直接相接地形成有所述第二選擇反射層，并且所述第二選擇反射層中被選擇反射的光當中的被正反射的光的比例為80％以上，
[化2]
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