[發(fā)明專利]在制備合成氣時用于碳注射和合成氣再循環(huán)的方法和裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201180022912.3
• 申請日: 2011-05-05
• 公開（公告）號: CN102985516A
• 公開（公告）日: 2013-03-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: R·永格倫
• 申請（專利權(quán)）人: 科特斯公司
• 主分類號: C10J3/50
• 分類號: C10J3/50;C10J1/20
• 代理公司: 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002
• 代理人: 苗征;于輝

1.將粉狀材料(C)引入到氣化反應(yīng)器(2)中的方法，其中通過粉狀材料(C)，將供給到氣化反應(yīng)器(2)中的過程氣體(P)還原成合成氣(S)，并且粉狀材料(C)經(jīng)由入口區(qū)被引入到氣化反應(yīng)器(2)中，在入口區(qū)產(chǎn)生的負(fù)壓使得粉狀材料(C)通過拉瓦爾噴嘴(15)，并且產(chǎn)生的負(fù)壓使得過程氣體(P)通過拉瓦爾噴嘴(15)，其特征在于所述過程氣體(P)在氣化反應(yīng)器(2)中的氣化空間(5)膨脹。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于所述粉狀材料由粉末狀碳(C)組成，當(dāng)粉末狀碳(C)被引入到氣化反應(yīng)器(2)中時，二次反應(yīng)產(chǎn)物(R_s)與粉末狀碳(C)混合。

3.如權(quán)利要求1-2中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于：在入口區(qū)產(chǎn)生的負(fù)壓吸入位于氣化反應(yīng)器(2)中的氣體和顆粒，從而延長氣體和顆粒在氣化反應(yīng)器(2)中的停留時間。

4.如權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于：在入口區(qū)產(chǎn)生的負(fù)壓導(dǎo)致氣體和顆粒在氣化反應(yīng)器(2)中循環(huán)，從而補(bǔ)償氣體組成的濃度差，補(bǔ)償由于氣化反應(yīng)導(dǎo)致的溫度變化，使設(shè)置在氣化反應(yīng)器(2)中的燃燒器(4)周圍的固定床最小化。

5.將粉狀材料(C)引入到氣化反應(yīng)器(2)中的裝置，其中通過粉狀材料(C)將供給到氣化反應(yīng)器(2)中的過程氣體(P)還原成合成氣(S)，所述裝置由注射噴嘴(1)組成，所述注射噴嘴(1)具有中心管/中心通道(6)用來將粉狀材料(C)引入到氣化反應(yīng)器(2)中，并且所述注射噴嘴(1)包括設(shè)置在中心通道(6)外部的拉瓦爾噴嘴(15)，其特征在于所述中心管/中心通道(6)直接朝向氣化反應(yīng)器(2)中的氣化空間(5)開口。

6.如權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于所述拉瓦爾噴嘴(15)設(shè)置在注射噴嘴(1)的端部，朝向氣化反應(yīng)器(2)中的氣化空間(5)。

7.如權(quán)利要求5或6所述的裝置，其特征在于所述注射噴嘴(1)包括用于再循環(huán)二次反應(yīng)產(chǎn)物(R_s)的另外通道(14)，并且在背離氣化反應(yīng)器(2)的氣化空間(5)的注射噴嘴(1)的端部區(qū)域中，所述另外通道(14)與所述中心管/中心通道(6)連通。

8.如權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于所述另外通道(14)的橫截面尺寸可以改變，從而調(diào)節(jié)由拉瓦爾噴嘴(15)產(chǎn)生的負(fù)壓。