[發明專利]晶體活性成分顆粒的制備方法有效
| 申請號: | 201180017761.2 | 申請日: | 2011-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN102858417A | 公開(公告)日: | 2013-01-02 |
| 發明(設計)人: | 德特勒夫·格拉韋;莎賓·格利辛 | 申請(專利權)人: | 約莎麗絲制藥股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D9/00 | 分類號: | B01D9/00;A61K9/16;B02C17/00;B02C19/18 |
| 代理公司: | 北京華夏博通專利事務所(普通合伙) 11264 | 代理人: | 劉俊 |
| 地址: | 德國*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 晶體 活性 成分 顆粒 制備 方法 | ||
1.一種晶體活性成分顆粒的制備方法,其中活性成分從過飽和溶液于該活性成分顆粒的表面上結晶出來,其特征在于,在一第一模塊中,對該活性成分的過飽和溶液中的活性成分顆粒的懸浮液進行濕磨,至少部分活性成分顆粒的懸浮液于一第二模塊中被冷卻并且同時暴露于超聲波,該第二模塊提供有來自第一模塊的活性成分顆粒懸浮液,并且在冷卻并暴露于超聲波之后,該活性成分顆粒懸浮液返回至該第一模塊,其中將活性成分溶液及可選擇性的抗溶劑提供至該懸浮液,并且移出活性成分顆粒以及液相,其中相對于總液相,該懸浮液的液相中活性成分的相對過飽和度為小于等于90%,并且被移出的活性成分顆粒具有10-500μm的平均粒徑d50。
2.依據權利要求1所述的方法,其特征在于,該相對過飽和度為5-80%。
3.依據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,選擇相對過飽和度,使得成核不發生。
4.依據權利要求1至3中任一項所述的方法,其特征在于,使用一轉子/定子研磨裝置進行該濕磨。
5.依據權利要求1至4中任一項所述的方法,其特征在于,被移出的活性成分顆粒的跨距小于等于1.5,其中該跨距定義為(d90-d10)/d50,以及被移出的活性成分顆粒的凝聚因子小于等于1.3,其中該凝聚因子定義為d90(凝聚顆粒)/d90(非凝聚顆粒)。
6.依據權利要求1至5中任一項所述的方法,其特征在于,通過連續提供活性成分溶液和可選擇性的抗溶劑以及連續移出活性成分顆粒和液相,連續實施該方法。
7.一種根據權利要求1至6中任一項所述的方法而得到的晶體活性成分顆粒。
8.一種具有10-500μm的平均粒徑d50的晶體活性成分顆粒,其特征在于,該跨距小于等于2.0,以及凝聚因子小于等于1.6,其中該跨距定義為(d90-d10)/d50,該凝聚因子定義為d90(凝聚顆粒)/d90(非凝聚顆粒)。
9.依據權利要求8所述的活性成分顆粒,其特征在于,d50=20-200μm,d10=8-18μm,跨距小于等于1.5以及凝聚因子小于等于1.3。
10.依據權利要求8或9所述的活性成分顆粒,其特征在于,該等活性成分顆粒的結晶部分大于等于99.5wt.-%。
11.一種根據權利要求7至10中任一項所述的晶體活性成分顆粒作為制藥產物的應用。
12.一種用于制備晶體活性成分顆粒的裝置,具有一第一模塊(M1)、一第二模塊(M2)、一供料(12)以及一出料(13),該第一模塊(M1)具有一濕磨裝置(5),在該濕磨裝置中,懸浮液中的活性成分顆粒被濕磨,該第二模塊(M2)具有一冷卻裝置(9)和一超聲源(10),用于同時冷卻并暴露該活性成分懸浮液于超聲波,利用該供料(12)活性成分溶液和可選擇性的抗溶劑可提供至該第一模塊(M1)或第二模塊(M2),利用該出料(13)活性成分顆粒及液相可自該第一模塊(M1)或第二模塊(M2)移出,其中該第一模塊(M1)和第二模塊(M2)相互連接,使得至少部分活性成分顆粒懸浮液可自該第一模塊(M1)移出,通過該第二模塊(M2)引導并返回至該第一模塊(M1)。
13.依據權利要求12所述的裝置,額外地具有一控制模塊(S1),該控制模塊控制該活性成分溶液及可選擇性的抗溶劑的供給以及該活性成分顆粒及液相的移出,使得相對于總液相,該懸浮液的液相中活性成分的相對過飽和度小于等于90%。
14.依據權利要求12或13所述的裝置,其特征在于,該濕磨裝置(5)為一轉子/定子研磨裝置。
15.依據權利要求12至14中任一項所述的裝置,其特征在于,該超聲源(10)為一超聲管式諧振器。
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